論文 - 市村 正也
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Deposition of Fe doped nanocrystalline SnO2 thin films by the photochemical deposition method 査読あり
Dengbaoleer Ao and M. Ichimura
Trans. Mater. Res. Soc. Jpn. 37 377 - 380 2012年09月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Dengbaoleer Ao and M. Ichimura
J. Non-Crystalline Solids 358 2470 - 2473 2012年09月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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K. Yang and M. Ichimura
Int. J. Photoenergy 2012 154704 2012年08月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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SiC photoelectrodes for a self-driven water-splitting cell 査読あり
T. Yasuda, M. Kato, M. Ichimura, and T. Hatayama
Appl. Phys. Lett. 101 053902 2012年08月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Fabrication of Copper Oxide Thin Films by the Drop Chemical Deposition Technique 査読あり
M. Muhibbullah and M. Ichimura
Mater. Res. Bull. 47 1968 - 1972 2012年08月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Y. Nakashima and M. Ichimura
Int. J. Photoenergy 2012 171432 2012年05月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Dengbaoleer Ao and M. Ichimura
Solid St. Electron. 69 1 - 3 2012年03月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Electrochemical Deposition of CuxS and CuxZnyS Thin Films with p-Type Conduction and Photosensitivity 査読あり
K. Yang, Y. Nakashima, and M. Ichimura
J. Electrochem. Soc. 159 ( 3 ) H250 - H254 2012年03月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Electrochemical deposition of Estimation of Surface Recombination Velocity from Thickness Dependence of Carrier Lifetime in n-Type 4H-SiC Epilayers 査読あり
M. Kato, A. Yoshida, and M. Ichimura
Jpn. J. Appl. Phys. 51 ( 2 ) 02BP12 2012年02月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Structural, electrical and optical characterization of CuInS2 thin films deposited by spray pyrolysis 査読あり
K. M. A. Hussain, J. Podder, D. K. Saha, and M. Ichimura
Indian J. Pure Appl. Phys. 50 117 - 122 2012年02月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Excess Carrier Lifetime in p-Type 4H-SiC Epilayers with and without Low-Energy Electron Irradiation 査読あり
M. Kato, Y. Matsushita, M. Ichimura, T. Hatayama, and T. Ohshima
Jpn. J. Appl. Phys. 51 ( 2 ) 028006 2012年02月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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New approach for generating Cu2O/TiO2 composite films for solar cell applications 査読あり
A. R. Zainun, T. Sakamoto, U. M. Noor, M. Rusop, M. Ichimura
Mater. Lett. 66 254 - 256 2012年01月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Fabrication of Heterojunctions Based on Chemically Deposited Copper Oxide Thin Films for Solar Cell Application 査読あり
M. Muhibbullah and M. Ichimura
Trans. Mater. Res. Soc. Jpn. 36 195 - 198 2011年07月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Characteristics of Ferroelectric Electron Emitters with Three-dimensional Emission Sites Formed by Chemical Etching 査読あり
T. Sugiyama, I. Ohwada, T. Nanataki, O. Eryu, M. Ichimura, and M. Gomi
J. Vac. Sci. Technol. B 92 ( 5 ) 032210 2011年05月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Band Alignment at the Cu2O/ZnO Heterojunction 査読あり
M. Ichimura and Y. Song
Jpn. J. Appl. Phys. 50 ( 5 ) 051002 2011年05月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Fabrication of Transparent p-Type CuxZnyS Thin Films by the Electrochemical Deposition Method 査読あり
K. Yang and M. Ichimura
Jpn. J. Appl. Phys. 20 ( 4 ) 040202 2011年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Observation of Defects that Reduce Schottky Barrier Height in 4H-SiC Schottky Contacts Using Electrochemical Deposition of ZnO 査読あり
M. Kato, H. Ono, M. Ichimura, G. Feng, T. Kimoto
Jpn. J. Appl. Phys. 50 ( 3 ) 036603 - 036603 2011年03月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Electrodeposition of SnO2 Thin Films from Aqueous Tin Sulfate Solutions 査読あり
J. M. Vequizo, J. Wang, and M. Ichimura
Jpn. J. Appl. Phys. 49 125502 2010年12月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Electrochemical deposition and characterization of CuGaxSyOz 査読あり
S. Chowdhury, M. Ichimura
Mater. Sci. Semicond. Processing 13 ( 4 ) 252 - 256 2010年12月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Pulsed electrodeposition of oxygen-free tin monosulfide thin films using lactic acid/sodium lactate buffered electrolytes 査読あり
F. Kang and M. Ichimura
Thin Solid Films 519 725 - 728 2010年10月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
