論文 - 市村 正也

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  • Control of Surface Recombination of Si Wafers by an External Electrode 査読あり

    M. Ichimura, M. Hirano, N. Kato, E. Arai, H. Takamatsu, and S. Sumie

    Jpn. J. Appl. Phys.   38 ( 3B )   L292 - L294   1999年04月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Structural and Optical Characterization of CdS Films Grown by Photochemical Deposition 査読あり

    M. Ichimura, F. Goto, and E. Ara

    J. Appl. Phys.   85 ( 10 )   7411 - 7417   1999年04月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Search for Midgap Levels in 3C-SiC Grown on Si Substrates 査読あり

    N. Yamada, M. Kato, M. Ichimura, E. Arai, and Y. Tokuda

    Jpn. J. Appl. Phys.   38 ( 10A )   L1094 - L1095   1999年04月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Defect Reduction in Electrochemically Deposited CdS Thin Films by Annealing in O2 査読あり

    F. Goto, K. Shirai, and M. Ichimura

    Solar Energy Mater. & Solar Cells   50 ( 1 )   147 - 153   1998年04月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Study of Carrier Emission and Capture Processes at Electron Traps in 3C-SiC 査読あり

    M. Ichimura, Y. Koga, N. Yamada, T. Abe, E. Arai, and Y. Tokuda

    Jpn. J. Appl. Phys.   37 ( 1 )   L18 - L20   1998年04月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Measurement of Minority Carrier Recombination Lifetime in Silicon Wafers by Measurement of Photoconductivity Decay by MicrowaveReflectance: Results of Round Robin Test 査読あり

    M. Miyazaki, K. Kawai, and M. Ichimura

    Recombination Lifetime Measurements in Silicon   84 ( 5 )   347 - 366   1998年04月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • Slow Photoconductivity Decay in 3C-SiC on Si Substrates 査読あり

    M. Ichimura, N. Yamada, H. Tajiri, and E. Arai

    J. Appl. Phys.   84 ( 5 )   2727 - 2731   1998年04月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Temperature Dependence of Carrier Recombination Lifetime in Si Wafers 査読あり

    M. Ichimura, H. Tajiri, T. Ito, and E. Arai

    J. Electrochem. Soc.   145 ( 9 )   3265 - 3271   1998年04月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Excess Carrier Lifetime of 3C-SiC Measured by the Microwave Photoconductivity Decay Method 査読あり

    M. Ichimura, H. Tajiri, Y. Morita, N. Yamada, and A. Usami

    Appl. Phys. Lett.   70 ( 13 )   1745 - 1747   1997年04月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Characterization of Thin Bonded Silicon-on-Insulator Structures by the Microwave Photoconductivity Decay Method

    M. Ichimura, T. Makino, H. Asakura, A. Usami, E. Morita, and E. Arai

    Jpn. J. Appl. Phys.   36 ( 7A )   L839 - L841   1997年04月

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    掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Contactless Evaluation of the Surface Recombination Velocity at High-Low Junction Surface Fabricated by the Ion-Implantation Technique 査読あり

    T. Makino, M. Ichimura, H. Yoshida, E. Morita, and A. Usami

    Jpn. J. Appl. Phys.   36 ( 2 )   601 - 604   1997年04月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • A New Technique of Compound Semiconductor Deposition from an Aqueous Solution by Photochemical Reactions 査読あり

    F. Goto, M. Ichimura, and E. Arai

    Jpn. J. Appl. Phys.   36 ( 9 )   L1146 - L1149   1997年04月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Raman and Photoluminescence Characterizations of Electrochemically Deposited ZnxCd1-xS Layers 査読あり

    M. Ichimura, T. Furukawa, K. Shirai, and F. Goto

    Mater. Lett.   33 ( 1 )   51 - 55   1997年04月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Stillinger-Weber Potentials for III-V Compound Semiconductors and Their Application to the Critical Thickness Calculation for InAs/GaAs 査読あり

    M. Ichimura

    Phys. Stat. Sol. (a)   153 ( 3 )   431 - 437   1996年04月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Atomistic Study of Partial Dislocations in Ge/Si (001) Heterostructures 査読あり

    M. Ichimura and J. Narayan

    Phil. Mag. A   73 ( 3 )   767 - 778   1996年04月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Relationship between Raman Spectra and Crystallinity of CdS Films Grown by Cathodic Electrodeposition 査読あり

    K. Shirai, Y. Moriguchi, M. Ichimura, A. Usami, and M. Saji

    Jpn. J. Appl. Phys.   35 ( 4 )   2057 - 2060   1996年04月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Effects of an Ultrathin Inserted Si Layer on Dislocation Nucleation in Ge/Si Heterostructures 査読あり

    M. Ichimura

    Jpn. J. Appl. Phys.   35 ( 5B )   L609 - L611   1996年04月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Surface Condition of Si Implanted GaAs Revealed by the Noncontact Laser/Microwave Method 査読あり

    M. Ichimura, H. Yoshida, and A. Usami

    J. Electron. Mater.   25 ( 7 )   1088 - 1092   1996年04月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Photoluminescence and Raman Scattering of Electrochemically Deposited CdS Films 査読あり

    K. Shirai, F. Goto, and M. Ichimura

    Jpn. J. Appl. Phys.   35 ( 11B )   L1483 - L1485   1996年04月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Evaluation of the Bonded Silicon on Insulator (SOI) Wafer and the Characteristics of PIN Photodiodes on the Bonded SOI Wafer 査読あり

    A. Usami, K. Kaneko, Y. Fujii, and M. Ichimura

    IEEE Trans. Electron Devices,   42 ( 2 )   239 - 243   1995年04月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

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