論文 - 市村 正也
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Effects of complexing agents on electrochemical deposition of FeSxOy thin films 査読あり
A. Supee and M. Ichimura
Jpn. J. Appl. Phys. 55 081202 2016年08月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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J. J. M. Vequizo, M. Yokoyama, M. Ichimura, and A. Yamakata
Appl. Phys. Exp. 9 067101 2016年06月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Effects of Tartaric Acid on Electrochemical Deposition of SnS in ZnO/SnS Heterostructures 査読あり
A. Supee and M. Ichimura
Trans. Mater. Res. Soc. Jpn. 41 193 2016年06月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Mössbauer study of electrochemically deposited amorphous iron-sulfide-oxide thin films 査読あり
M. Ichimura, T. Kajima, S. Kawai, K. Mibu
Jpn. J. Appl. Phys. 55 038006 2016年03月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Comparison of amorphous Fe-S-O and crystalline FeS2 pyrite for photovoltaic application 査読あり 国際誌
S. Kawai, T. Kajima, M. Ichimura
Materials Research Express 3 025901 2016年02月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Spectral response, carrier lifetime, and photocurrents of SiC photocathodes 査読あり
M. Kato, K. Miyake, T. Yasuda, M. Ichimura, T. Hatayama, T. Ohshima
Jpn. J. Appl. Phys. 55 01AC02 2016年01月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Fabrication of Cu2O/Fe–O heterojunction solar cells by electrodeposition 査読あり 国際誌
J. J. M. Vequizo, C. Zhang, M. Ichimura
Thin Solid Films 597 83 2015年12月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Carrier lifetime measurements on various crystal faces of rutile TiO2 single crystals 査読あり 国際誌
M. Kato, K. Kohama, Y. Ichikawa, M. Ichimura
Mater. Lett. 160 397 2015年12月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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M. Ichimura, Y. Maeda
Thin Solid Films 594 277 2015年11月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Effects of Complexing Agents on Three Steps Pulse Electrodeposited SnS Thin Films 査読あり 国際誌
A. Supee, Y. Tanaka, M. Ichimura
Mater. Sci. Semicond. Processing 38 290 2015年10月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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N. Ichikawa, M. Kato, M. Ichimura
Appl. Phys. Exp. 8 091301 2015年08月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Fabrication of transparent CuxZnyS/ZnS heterojunction diodes by photochemical deposition 査読あり 国際誌
M. Ichimura, Y. Maeda
Physica Status Solidi (c) 12 504 2015年06月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Heterojunctions Based on Photochemically Deposited CuxZnyS and Electrochemically Deposited ZnO 査読あり
M. Ichimura, Y. Maeda
Solid St. Electron. 107 8 2015年05月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Microwave reflectivity from 4H-SiC under a high-injection condition: impacts of electron–hole scattering 査読あり
M. Kato, Y. Mori, M. Ichimura
Jpn. J. Appl. Phys. 54 04DP14 2015年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Band alignment at the CdS/FeS2 interface based on the first-principles calculation 査読あり
M. Ichimura and S. Kawai
Jpn. J. Appl. Phys. 54 ( 3 ) 038002 2015年03月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Physical properties of rf magnetron sputter deposited NiO:WO3 thin films 査読あり 国際共著 国際誌
K. S. Usha, R Sivakumar, C. Sanjeeviraja, M. Ichimura
Mater. Res. Express 2 016401 2015年01月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Influence of Secondary Phases in Kesterite-Cu2ZnSnS4 Absorber Material Based on the First-Principles Calculation 査読あり
W. Bao, M. Ichimura
Int. J. Photoenergy 2015 592079 2015年01月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Electrochemical Deposition of Fe-S-O Thin Films 査読あり
K. Yang, S. Kawai, M. Ichimura
Thin Solid Films 573 1 - 5 2014年12月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Surface recombination velocities for n-type 4H-SiC treated by various processes 査読あり
Y. Mori, M. Kato, M. Ichimura
J. Phys. D: Appl. Phys. 47 335102 2014年07月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Electrochemical deposition of aluminum oxide thin films from aqueous baths 査読あり
A.M. Abdel Haleem, M. Ichimura
Materials Letters 130 26 - 28 2014年06月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
