論文 - 木村 高志
-
Preparation of diamond-like carbon films using reactive Ar/CH4 high power impulse magnetron sputtering system with negative pulse voltage source for substrate 査読あり 国際誌
Takashi Kimura, Hikaru Kamata
Japanese Journal of Applied Physics 55 046201 2016年04月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：The Japan Society of Applied Physics
Diamond-like carbon films were prepared using a reactive Ar/CH4 high-power impulse magnetron sputtering system with a negative pulse voltage source for the substrate, changing the CH4 fraction up to 15% in the total pressure range from 0.3 to 2 Pa. The magnitude of the negative pulse voltage for the substrate was also varied up to about 500V. The hardness of films monotonically increased with increasing magnitude of the negative pulse voltage. The films with hardnesses between 16.5 and 23GPa were prepared at total pressures less than 0.5 Pa and CH4 fractions less than 10% by applying an appropriate negative pulse voltage of 300–400V. In X-ray photoelectron spectroscopy, the area ratio C–C sp3/(C–C sp2 + C–C sp3) in the C 1s core level was higher than 30% at pressures less than 0.5 Pa and CH4 fractions less than 15%. On the other hand, the films with hardnesses between 5 and 10GPa were prepared with a relatively high growth rate at the partial pressures of CH4 higher than 0.1 Pa. However, the observation of the photoluminescence background in Raman spectroscopy indicated a relatively high hydrogen content.
-
Surface treatment of diamond-like carbon films by reactive Ar/CF4 high-power pulsed magnetron sputtering plasmas 査読あり
T.Kimura, R.Nishimura, K.Azuma, S.Nakao, T.Sonoda, T. Kusumori, K.Ozaki
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B 365 155 - 158 2015年12月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
-
Comparison study on diamond-like carbon films prepared by various methods 査読あり
S.Nakao, T.Sonoda, J.Choi, H.Yasui, T.Kimura and K. Azuma
International Symposium on sputtering & plasma processes 2015年07月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
-
Formation of amorphous carbon nitride films by reactive Ar/N2 high-power impulse magnetron sputtering 査読あり
Takashi Kimura, Ryotaro Nishimura
Japanese Journal of Applied Physics 54 ( 01AD06 ) 1 - 6 2015年01月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
-
Formation of hydrogenated diamond-like carbon films by reactive Ar/CH4 high-power impulse magnetron sputtering 査読あり
Takashi Kimura, Ryotaro Nishimura
Japanese Journal of Applied Physics 53 ( 090301 ) 1 - 4 2014年09月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
-
Formation of Amorphous CNx Films by Reactive Ar/N2 High Power Impulse Magnetron Sputtering 査読あり
木村高志、西村亮太郎
8th International Conference on Reactive plasmas/31st Symposium on Plasma Processing 2014年02月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
-
Properties of inductively coupled rf CH4/H2 plasmas:experiments and global model 査読あり
Takashi Kimura and Hiroki Kasugai
Japanese Journal of Applied Physic 51 ( 4 ) 046202-1 - 046202-10 2012年04月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
-
Deposition of diamond-like carbon films by high power pulsed magnetron sputtering 査読あり
T. Kimura and M. Iida
2011 International Symposium on Dry Process 121 - 122 2011年11月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
-
Deposition of Fluorinated Diamond-Like-Carbon Films by Exposure of Electrothermal Pulsed Plasmas 査読あり
Takashi Kimura, Masayasu Iida
Japanese Journal of Applied Physics 50 ( 08 ) JD04 2011年08月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
-
Experiments and global model of inductively coupled rf Ar/N2 discharges 査読あり
Takashi Kimura, Hiroki Kasugai
Journal of Applied Physics 108 033305-1 - 033305-9 2010年08月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
-
Properties of inductively-coupled RF Ar/H2 plasmas :experiment and global model 査読あり
Takashi Kimura, Hiroki Kasugai
Journal of Applied Physics 107 83308 2010年04月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
-
Comparison of properties of atmospheric pressure radio frequency He/SF6/O2 and He/CF4/O2 discharges 査読あり
T Kimura and H Tanahashi
Japanese Journal of Applied Physics 49 26102 2010年02月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
-
Comparison of plasma parameters measured in inductively coupled Ar/C4F8/O2 and Ar/CF4/O2 plasmas 査読あり
T Kimura and K Hanaki
Japanese Journal of Applied Physics 48 ( 9 ) 96004 2009年09月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
-
Experimental study on properties of radio frequency He/CF4/O2 discharges at atmospheric pressure 査読あり
T. Kimura and H Tanahashi
Plasma Sources Science and Technology 18 ( 2 ) 25002 2009年05月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
-
大気圧ヘリウム直流グロ－放電の一次元流体シミュレ－ション 査読あり
小田昭紀、木村高志
電気学会論文誌A 129 ( 4 ) 251 - 256 2009年04月
記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
-
Experiments and global model analysis of inductively coupled CF4/O2/Ar plasmas 査読あり
T Kimura and K Hanaki
Japanese Journal of Applied Physics 47 ( 11 ) 8537 - 8545 2008年11月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
-
Probe measurements and optical emission spectroscopy in inductively coupled Ar/CF4, Ar/NF3 and Ar/SF6 discharges 査読あり
T Kimura and K Hanaki
Japanese Journal of Applied Physics 47 ( 11 ) 8546 - 8552 2008年11月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
-
Experimental study on inductively coupled RF CF4/O2/Ar discharges 査読あり 国際誌
T.Kimura, K.Hanaki and S.Shimagami
Proceedings of 18th International Symposium on Plasma Chemistry (CD ROM) 110 2007年08月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
-
Experimental study on atmospheric pressure RF capacitive He/CF4,He/C2F6 and He/SF6 discharges 査読あり 国際誌
T.Kimura, H.Tanahashi, T.Mori
Proceedings of 18th International Symposium on Plasma Chemistry (CD ROM) 167 2007年08月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
-
Experimental study and global model of inductively coupled CF4/O2 discharges 査読あり
T Kimura and M Noto
Journal of Applied Physics 100 ( 6 ) 63303 2006年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
