論文 - 木村　高志

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  • Properties of CrN/TiN multilayer films with nanoscale layer thickness 査読あり 国際誌

    Takashi Kimura, Hiroki Maeda

    IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE   51 ( 2 )   327 - 332   2023年02月

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    担当区分：筆頭著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：IEEE  

    DOI： 10.1109/TPS.2022.3185148

  • Properties of multilayered CrN/VN films prepared using a hybrid system of high-power impulse magnetron sputtering and pulsed magnetron sputtering 査読あり 国際誌

    Takashi Kimura, Hiroki Maeda

    IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE   51 ( 2 )   320 - 326   2023年02月

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    担当区分：筆頭著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：IEEE  

    DOI： 10.1109/TPS.2022.3175190

  • Titanium silicon nitride films with low silicon content deposited via reactive high-power pulsed sputtering Penning discharge 査読あり 国際誌

    T. Kimura, R. Yoshida, K. Azuma

    IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE   49 ( 1 )   53 - 60   2021年01月

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：IEEE  

    DOI： 10.1109/TPS.2020.3012159

  • Synthesis of hard diamond-like carbon films by double-pulse high-power impulse magnetron sputtering 査読あり 国際誌

    T. Kimura, K. Sakai

    Diamond & Related Materials   108   107996   2020年08月

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Elsevier  

    DOI： 10.1016/j.diamond.2020.107996

  • Properties of titanium oxynitride films deposited on glass substrate by reactive high-power pulsed magnetron sputtering 査読あり 国際誌

    T. Kimura, T. Tanaka

    Japanese Journal of Applied Physics   59   SHHE03   2020年06月

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：The Japan Society of Applied Physics  

    DOI： 10.7567/1347-4065/ab5e5b

  • Effects of adding hydrocarbon gas to a high-power impulse magnetron sputtering system on the properties of diamond-like carbon films 査読あり 国際誌

    T. Kimura, K. Sakai

    Thin solid films   701   137924   2020年05月

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Elsevier  

    DOI： 10.1016/j.tsf.2020.137924

  • Preparation of silicon-doped diamond-like carbon films with electrical conductivity by reactive high-power impulse magnetron sputtering combined with a plasma-based ion implantation system 査読あり 国際誌

    Y. Shibata, T.Kimura, S. Nakao, K.Azuma

    Diamond & Related Materials   101   107635   2020年01月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Elsevier  

    DOI： 10.1016/j.diamond.2019.107635

  • Properties of titanium oxynitride films prepared by reactive high power pulsed magnetron sputtering

    T.Kimura, T. Tanaka

    XXXIV International COnference on Phenomena in ionzied gases   2019年07月

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）  

  • Deposition of Si-doped DLC films by reactive HiPIMS combined with PBII system

    T. Kimura , Y. Shibata, S. Nakao and K. Azuma

    Proceedings International symposium on sputtering & plasma processes   178 - 180   2019年06月

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）  

  • Preparation of titanium carbon nitride films by reactive high power pulsed sputtering Penning discharges 査読あり 国際誌

    Takashi Kimura, Ryo Yoshida, Kingo Azuma, Setsuo Nakao

    Vacuum   157   192 - 201   2018年11月

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Elsevier  

    DOI： 10.1016/j.vacuum.2018.08.043

  • Comparative investigation on DLC films prepared by reactive high-power impulse magnetron sputtering of Ar/CH4 and Ar/C2H4 mixture

    K. Sakai, T. Kimura

    2018 International Symposium on Dry Process   2018年11月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）  

  • Deposition and ion irradiation multi-process coating of diamond-like carbon films using bipolar type plasma based ion implantation

    S. Nakao, H. Yanai, T. Kimura, K. Azuma

    2018 International Symposium on Dry Process   2018年11月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）  

  • Plasma based nitrogen ion implantation to hydrogenated diamond-like carbon films 査読あり 国際誌

    Takashi Kimura, Hidekazu Yanai, Setsuo Nakao, Kingo Azuma

    Nuclear Inst. and Methods in Physics Research B   433   87 - 92   2018年10月

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Elsevier  

    DOI： 10.1016/j.nimb.2018.08.009

  • Preparation of TiN films by reactive high-power pulsed sputtering Penning discharges 査読あり

    Takashi Kimura, Ryo Yoshida, Toshihiko Mishima, Kingo Azuma, and Setsuo Nakao

    Japanese Journal of Applied Physics   57 ( 06JE02 )   1 - 6   2018年06月

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：The Japan Society of Applied Physics  

    DOI： 10.7567/JJAP.57.06JE02

  • Preparation of TiN films by reactive high power pulsed sputter Penning-type discharges 査読あり

    T. Mishima, T. Kimura, R. Yoshida, K. Azuma, S. Nakao

    2017 International Symposium on Dry Process   2017年11月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）  

  • Conductive diamond-like carbon films prepared by high power pulsed magnetron sputtering with bipolar type plasma based ion implantation system 査読あり 国際誌

    S. Nakao, T. Kimura, T. Suyama, K. Azuma

    Diamond and Related Materials   77   122 - 130   2017年07月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Elsevier  

    DOI： 10.1016/j.diamond.2017.06.011

  • Plasma Parameters of Titanium-Based Metallic Plasma Generated by a Compact-Type High-Power Pulsed Sputtering Penning Discharge 査読あり 国際誌

    Kingo Azuma and Takashi Kimura

    IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE   44 ( 12 )   3201 - 3206   2016年12月

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    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：IEEE  

    DOI： 10.1109/TPS.2016.2615310

  • Preparation of titanium-doped diamond-like carbon films with electrical conductivity using high power pulsed magnetron sputtering system with bipolar pulse voltage source for substrate 査読あり 国際誌

    Takashi Kimura, Hikaru Kamata, Setsuo Nakao, and Kingo Azuma

    IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE   44 ( 12 )   3083 - 3090   2016年12月

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：IEEE  

    DOI： 10.1109/TPS.2016.2587750

  • Properties of diamond-like carbon films prepared by high power pulsed sputtering with two facing targets 査読あり 国際誌

    Takashi Kimura, Toshihiko Mishima, Kingo Azuma, Setsuo Nakao

    surface and coating technology   307   1053 - 1058   2016年12月

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：Elsevier  

    DOI： 10.1016/j.surfcoat.2016.07.030

  • Preparation of hydrogenated diamond-like carbon films using high-density pulsed plasmas of Ar/C2H2 and Ne/C2H2 mixture 査読あり

    Takashi Kimura and Hikaru Kamata

    Japanese Journal of Applied Physics   55   07LE02   2016年07月

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    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）   出版者・発行元：The Japan Society of Applied Physics  

    Hydrogenated diamond-like carbon films are prepared using reactive high-density pulsed plasmas of Ar/C2H2 and Ne/C2H2 mixture in the total pressure range from 0.5 to 2 Pa. The plasmas are produced using a reactive high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) system. A negative pulse voltage of -500 V is applied to the substrate for a period of 15 micro second in the afterglow mode. The growth rate does not strongly depend on the type of ambient gas but it markedly increases to about 2.7 micrometer/h at a C2H2 fraction of 10% and a total pressure of 2 Pa with increasing C2H2 fraction. The marked increase in the growth rate means that the HiPIMS system can be regarded as a plasma source for the chemical vapor deposition process. The hardness of the films prepared by Ne/C2H2 plasmas is somewhat higher than that of the films prepared by Ar/C2H2 plasmas under the same operating conditions, and the difference becomes larger as the pressure increases. The hardness of the films prepared by Ne/C2H2 plasmas ranges between 11 and 18 GPa. In the Raman spectra, two very broad overlapping bands are assigned as the G (graphite) and D (disorder) bands. The peak position of the G band is roughly independent of the total pressure, whereas the FWHM of the G peak decreases with increasing total pressure as a whole.

    DOI： 10.7567/JJAP.55.07LE02

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