論文 - 木村 高志
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Properties of CrN/TiN multilayer films with nanoscale layer thickness 査読あり 国際誌
Takashi Kimura, Hiroki Maeda
IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE 51 ( 2 ) 327 - 332 2023年02月
担当区分：筆頭著者, 責任著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：IEEE
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Properties of multilayered CrN/VN films prepared using a hybrid system of high-power impulse magnetron sputtering and pulsed magnetron sputtering 査読あり 国際誌
Takashi Kimura, Hiroki Maeda
IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE 51 ( 2 ) 320 - 326 2023年02月
担当区分：筆頭著者, 責任著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：IEEE
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Titanium silicon nitride films with low silicon content deposited via reactive high-power pulsed sputtering Penning discharge 査読あり 国際誌
T. Kimura, R. Yoshida, K. Azuma
IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE 49 ( 1 ) 53 - 60 2021年01月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：IEEE
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Synthesis of hard diamond-like carbon films by double-pulse high-power impulse magnetron sputtering 査読あり 国際誌
T. Kimura, K. Sakai
Diamond & Related Materials 108 107996 2020年08月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：Elsevier
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Properties of titanium oxynitride films deposited on glass substrate by reactive high-power pulsed magnetron sputtering 査読あり 国際誌
T. Kimura, T. Tanaka
Japanese Journal of Applied Physics 59 SHHE03 2020年06月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：The Japan Society of Applied Physics
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Effects of adding hydrocarbon gas to a high-power impulse magnetron sputtering system on the properties of diamond-like carbon films 査読あり 国際誌
T. Kimura, K. Sakai
Thin solid films 701 137924 2020年05月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：Elsevier
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Preparation of silicon-doped diamond-like carbon films with electrical conductivity by reactive high-power impulse magnetron sputtering combined with a plasma-based ion implantation system 査読あり 国際誌
Y. Shibata, T.Kimura, S. Nakao, K.Azuma
Diamond & Related Materials 101 107635 2020年01月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：Elsevier
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Properties of titanium oxynitride films prepared by reactive high power pulsed magnetron sputtering
T.Kimura, T. Tanaka
XXXIV International COnference on Phenomena in ionzied gases 2019年07月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
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Deposition of Si-doped DLC films by reactive HiPIMS combined with PBII system
T. Kimura , Y. Shibata, S. Nakao and K. Azuma
Proceedings International symposium on sputtering & plasma processes 178 - 180 2019年06月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
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Preparation of titanium carbon nitride films by reactive high power pulsed sputtering Penning discharges 査読あり 国際誌
Takashi Kimura, Ryo Yoshida, Kingo Azuma, Setsuo Nakao
Vacuum 157 192 - 201 2018年11月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：Elsevier
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Comparative investigation on DLC films prepared by reactive high-power impulse magnetron sputtering of Ar/CH4 and Ar/C2H4 mixture
K. Sakai, T. Kimura
2018 International Symposium on Dry Process 2018年11月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
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Deposition and ion irradiation multi-process coating of diamond-like carbon films using bipolar type plasma based ion implantation
S. Nakao, H. Yanai, T. Kimura, K. Azuma
2018 International Symposium on Dry Process 2018年11月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
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Plasma based nitrogen ion implantation to hydrogenated diamond-like carbon films 査読あり 国際誌
Takashi Kimura, Hidekazu Yanai, Setsuo Nakao, Kingo Azuma
Nuclear Inst. and Methods in Physics Research B 433 87 - 92 2018年10月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：Elsevier
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Preparation of TiN films by reactive high-power pulsed sputtering Penning discharges 査読あり
Takashi Kimura, Ryo Yoshida, Toshihiko Mishima, Kingo Azuma, and Setsuo Nakao
Japanese Journal of Applied Physics 57 ( 06JE02 ) 1 - 6 2018年06月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：The Japan Society of Applied Physics
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Preparation of TiN films by reactive high power pulsed sputter Penning-type discharges 査読あり
T. Mishima, T. Kimura, R. Yoshida, K. Azuma, S. Nakao
2017 International Symposium on Dry Process 2017年11月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
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S. Nakao, T. Kimura, T. Suyama, K. Azuma
Diamond and Related Materials 77 122 - 130 2017年07月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：Elsevier
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Plasma Parameters of Titanium-Based Metallic Plasma Generated by a Compact-Type High-Power Pulsed Sputtering Penning Discharge 査読あり 国際誌
Kingo Azuma and Takashi Kimura
IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE 44 ( 12 ) 3201 - 3206 2016年12月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：IEEE
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Preparation of titanium-doped diamond-like carbon films with electrical conductivity using high power pulsed magnetron sputtering system with bipolar pulse voltage source for substrate 査読あり 国際誌
Takashi Kimura, Hikaru Kamata, Setsuo Nakao, and Kingo Azuma
IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE 44 ( 12 ) 3083 - 3090 2016年12月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：IEEE
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Properties of diamond-like carbon films prepared by high power pulsed sputtering with two facing targets 査読あり 国際誌
Takashi Kimura, Toshihiko Mishima, Kingo Azuma, Setsuo Nakao
surface and coating technology 307 1053 - 1058 2016年12月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：Elsevier
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Preparation of hydrogenated diamond-like carbon films using high-density pulsed plasmas of Ar/C2H2 and Ne/C2H2 mixture 査読あり
Takashi Kimura and Hikaru Kamata
Japanese Journal of Applied Physics 55 07LE02 2016年07月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：The Japan Society of Applied Physics
Hydrogenated diamond-like carbon films are prepared using reactive high-density pulsed plasmas of Ar/C2H2 and Ne/C2H2 mixture in the total pressure range from 0.5 to 2 Pa. The plasmas are produced using a reactive high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) system. A negative pulse voltage of -500 V is applied to the substrate for a period of 15 micro second in the afterglow mode. The growth rate does not strongly depend on the type of ambient gas but it markedly increases to about 2.7 micrometer/h at a C2H2 fraction of 10% and a total pressure of 2 Pa with increasing C2H2 fraction. The marked increase in the growth rate means that the HiPIMS system can be regarded as a plasma source for the chemical vapor deposition process. The hardness of the films prepared by Ne/C2H2 plasmas is somewhat higher than that of the films prepared by Ar/C2H2 plasmas under the same operating conditions, and the difference becomes larger as the pressure increases. The hardness of the films prepared by Ne/C2H2 plasmas ranges between 11 and 18 GPa. In the Raman spectra, two very broad overlapping bands are assigned as the G (graphite) and D (disorder) bands. The peak position of the G band is roughly independent of the total pressure, whereas the FWHM of the G peak decreases with increasing total pressure as a whole.
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Preparation of diamond-like carbon films using reactive Ar/CH4 high power impulse magnetron sputtering system with negative pulse voltage source for substrate 査読あり 国際誌
Takashi Kimura, Hikaru Kamata
Japanese Journal of Applied Physics 55 046201 2016年04月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：The Japan Society of Applied Physics
Diamond-like carbon films were prepared using a reactive Ar/CH4 high-power impulse magnetron sputtering system with a negative pulse voltage source for the substrate, changing the CH4 fraction up to 15% in the total pressure range from 0.3 to 2 Pa. The magnitude of the negative pulse voltage for the substrate was also varied up to about 500V. The hardness of films monotonically increased with increasing magnitude of the negative pulse voltage. The films with hardnesses between 16.5 and 23GPa were prepared at total pressures less than 0.5 Pa and CH4 fractions less than 10% by applying an appropriate negative pulse voltage of 300–400V. In X-ray photoelectron spectroscopy, the area ratio C–C sp3/(C–C sp2 + C–C sp3) in the C 1s core level was higher than 30% at pressures less than 0.5 Pa and CH4 fractions less than 15%. On the other hand, the films with hardnesses between 5 and 10GPa were prepared with a relatively high growth rate at the partial pressures of CH4 higher than 0.1 Pa. However, the observation of the photoluminescence background in Raman spectroscopy indicated a relatively high hydrogen content.
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Surface treatment of diamond-like carbon films by reactive Ar/CF4 high-power pulsed magnetron sputtering plasmas 査読あり
T.Kimura, R.Nishimura, K.Azuma, S.Nakao, T.Sonoda, T. Kusumori, K.Ozaki
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B 365 155 - 158 2015年12月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Comparison study on diamond-like carbon films prepared by various methods 査読あり
S.Nakao, T.Sonoda, J.Choi, H.Yasui, T.Kimura and K. Azuma
International Symposium on sputtering & plasma processes 2015年07月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
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Formation of amorphous carbon nitride films by reactive Ar/N2 high-power impulse magnetron sputtering 査読あり
Takashi Kimura, Ryotaro Nishimura
Japanese Journal of Applied Physics 54 ( 01AD06 ) 1 - 6 2015年01月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Formation of hydrogenated diamond-like carbon films by reactive Ar/CH4 high-power impulse magnetron sputtering 査読あり
Takashi Kimura, Ryotaro Nishimura
Japanese Journal of Applied Physics 53 ( 090301 ) 1 - 4 2014年09月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Formation of Amorphous CNx Films by Reactive Ar/N2 High Power Impulse Magnetron Sputtering 査読あり
木村高志、西村亮太郎
8th International Conference on Reactive plasmas/31st Symposium on Plasma Processing 2014年02月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
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Properties of inductively coupled rf CH4/H2 plasmas:experiments and global model 査読あり
Takashi Kimura and Hiroki Kasugai
Japanese Journal of Applied Physic 51 ( 4 ) 046202-1 - 046202-10 2012年04月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Deposition of diamond-like carbon films by high power pulsed magnetron sputtering 査読あり
T. Kimura and M. Iida
2011 International Symposium on Dry Process 121 - 122 2011年11月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
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Deposition of Fluorinated Diamond-Like-Carbon Films by Exposure of Electrothermal Pulsed Plasmas 査読あり
Takashi Kimura, Masayasu Iida
Japanese Journal of Applied Physics 50 ( 08 ) JD04 2011年08月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Experiments and global model of inductively coupled rf Ar/N2 discharges 査読あり
Takashi Kimura, Hiroki Kasugai
Journal of Applied Physics 108 033305-1 - 033305-9 2010年08月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Properties of inductively-coupled RF Ar/H2 plasmas :experiment and global model 査読あり
Takashi Kimura, Hiroki Kasugai
Journal of Applied Physics 107 83308 2010年04月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Comparison of properties of atmospheric pressure radio frequency He/SF6/O2 and He/CF4/O2 discharges 査読あり
T Kimura and H Tanahashi
Japanese Journal of Applied Physics 49 26102 2010年02月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Comparison of plasma parameters measured in inductively coupled Ar/C4F8/O2 and Ar/CF4/O2 plasmas 査読あり
T Kimura and K Hanaki
Japanese Journal of Applied Physics 48 ( 9 ) 96004 2009年09月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Experimental study on properties of radio frequency He/CF4/O2 discharges at atmospheric pressure 査読あり
T. Kimura and H Tanahashi
Plasma Sources Science and Technology 18 ( 2 ) 25002 2009年05月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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大気圧ヘリウム直流グロ－放電の一次元流体シミュレ－ション 査読あり
小田昭紀、木村高志
電気学会論文誌A 129 ( 4 ) 251 - 256 2009年04月
記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Experiments and global model analysis of inductively coupled CF4/O2/Ar plasmas 査読あり
T Kimura and K Hanaki
Japanese Journal of Applied Physics 47 ( 11 ) 8537 - 8545 2008年11月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Probe measurements and optical emission spectroscopy in inductively coupled Ar/CF4, Ar/NF3 and Ar/SF6 discharges 査読あり
T Kimura and K Hanaki
Japanese Journal of Applied Physics 47 ( 11 ) 8546 - 8552 2008年11月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Experimental study on inductively coupled RF CF4/O2/Ar discharges 査読あり 国際誌
T.Kimura, K.Hanaki and S.Shimagami
Proceedings of 18th International Symposium on Plasma Chemistry (CD ROM) 110 2007年08月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
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Experimental study on atmospheric pressure RF capacitive He/CF4,He/C2F6 and He/SF6 discharges 査読あり 国際誌
T.Kimura, H.Tanahashi, T.Mori
Proceedings of 18th International Symposium on Plasma Chemistry (CD ROM) 167 2007年08月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
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Experimental study and global model of inductively coupled CF4/O2 discharges 査読あり
T Kimura and M Noto
Journal of Applied Physics 100 ( 6 ) 63303 2006年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Experimental study of capacitive He/O2 discharges at atmospheric pressure 査読あり
T Kimura and T Hanai
Japanese Journal of Applied Physics 45 ( 5 ) 4219 - 4221 2006年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Dependences of Plasma Parameters on Dilution Gas Content in Inductively Coupled C2F6/Ar and C2F6/O2 Discharges 査読あり
T Kimura and M Noto
Japanese Journal of Applied Physics 44 ( 12 ) 8667 - 8669 2005年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Ozone Production Efficiency in Atmospheric Dielectric Barrier Discharge of Oxygen Using a Time-Modulated Power Supply 査読あり
T Kimura, Y Hattori and A Oda
Japanese Journal of Applied Physics 43 ( 11 ) 7689 - 7692 2004年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Effect of attaching gas addition on plasma parameters in inductive Ar/O2 and Ar/CF4 discharges 査読あり
木村高志、高井智義
Japanese Journal of Applied Physics 43 ( 10 ) 7240 - 7248 2004年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Xe/O2ガス混合バリア放電のモデリング-O2ガス添加のXeバリア放電特性への影響- 査読あり
小田昭紀、木村高志
電気学会論文誌A 123 ( 12 ) 1253 - 1258 2003年04月
記述言語：日本語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Ozone production efficiency in atmospheric dielectric barrier discharge of oxygen/rare-gas mixture 査読あり
木村高志、吉越健敏、小田昭紀
Japanese Journal of Applied Physics 42 ( 8 ) 5313 - 5314 2003年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Model and probe measurements of inductively coupled CF4 discharges 査読あり
木村高志、大江一行
Journal of Applied Physics 92 ( 4 ) 1780 - 1787 2002年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Spatial Structure of Electronegative Ar/CF4 Plasmas in Capacitive RF Discharges 査読あり
Kouji Kaga, Takashi Kimura, Takao Imaeda and Kazuyuki Ohe
Japanese Journal of Applied Physics 40 ( 10 ) 6115 - 6116 2001年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Spatial profile measurements of charged particles in capacitively coupled RF Oxygen discharges 査読あり
加賀広持、木村高志、大江一行
Japanese Journal of Applied Physics 40 ( 1 ) 330 - 331 2001年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Modelling finite cylinder electronegative discharges 査読あり
Takashi Kimura, A J Lichtenberg and M.A. Lieberman
Plasma Sources Science and Technology 10 ( 10 ) 430 - 439 2001年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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木村高志、大江一行
Applied Physics Letters 79 ( 18 ) 2874 - 2876 2001年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Global model of inductively coupled Ar plasmas using two-temperature approximation 査読あり
木村高志、大江一行
Journal of Applied Physics 89 ( 8 ) 4240 - 4246 2001年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Gap length dependence of electron energy distribution in low-pressure Ar capacitively coupled RF discharges 査読あり
Takashi Kimura, Kouji Kaga and Kazuyuki Ohe 木村高志、 加賀広持、大江一行
Japanese Journal of Applied Physics 39 ( 3 ) 1351 - 1357 2000年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Experimental investigations on Ne/CF4 inductively coupled discharges 査読あり
木村高志、大江一行
Japanese Journal of Applied Physics 39 ( 1 ) 282 - 286 2000年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Probe measurements and global model of inductively coupled Ar/ CF4 discharges 査読あり
木村高志、大江一行
Plasma Sources Science and Technology 8 553 - 560 1999年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Improvement of Ozone yielding rate in atmospheric pressure barrier discharges using a time-modulated power supply 査読あり
大江一行、神谷聖人、木村高志
IEEE Transactions on Plasma Science 27 ( 6 ) 1582 - 1587 1999年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Experimental studies of O2/Ar plasma in a planar inductive discharge 査読あり
J.T.Gudmundsson、Takashi Kimura and M.A. Lieberman
Plasma Sources Science and Technology 8 22 - 30 1999年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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The spatial profiles of charged particles in a multipolar magnetically confined Ar-O2 plasma 査読あり
木村高志、稲垣光二、大江一行
Journal of Physics D 31 2295 - 2304 1998年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Formation of dip structure of electron energy distribution function in diffused Nitrogen plasmas 査読あり
木村高志、中村匡利、大江一行
Journal of the Physical Society of Japan 67 ( 10 ) 3443 - 3449 1998年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Axial dependence of electron energy distribution in symmetrical rf Ar discharges 査読あり
木村高志、加賀広持、大江一行
Japanese Journal of Applied Physics 36 ( 4 ) 2336 - 2339 1997年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Pressure dependences of electron energy distribution and power dissipation in symmetrical rf discharges of inert gases 査読あり
木村高志、大江一行
Japanese Journal of Applied Physics 36 ( 3 ) 1274 - 1281 1997年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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L Sirghi, Kazuyuki Ohe and Takashi Kimura
Physics of Plasmas 4 ( 4 ) 1160 - 1165 1997年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Electron behaviors in potential structure formed by applying external voltage to non-uniform Ne plasma 査読あり
K Ohe, T.Kimura, A Kanbe, K Kaga and K Kawamura
Journal of Physics D 30 ( 10 ) 374 - 380 1997年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Radial profile of diffusion-controlled He positive columns 査読あり
木村高志、加納彰、大江一行
Physics of Plasmas 2 ( 12 ) 4659 - 4661 1995年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Experimental and theoretical investigations of DC glow discharges in argon-nitrogen mixtures 査読あり
木村高志、赤塚和哉、大江一行
Journal of Physics D 27 1664 - 1671 1994年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Pressure dependences of electron energy distribution and power dissipation in symmetrical rf helium discharges 査読あり
木村高志、大江一行
Journal of Physics D 27 1465 - 1469 1994年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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K Ohe，S. Takeshima and T Kimura
Physics of Fluids B 5 ( 7 ) 2331 - 2333 1993年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Identification of two modes of ionization waves excited in He positive columns 査読あり
大江一行、林茂樹、木村高志
Journal of the Physical Society of Japan 62 ( 10 ) 3476 - 3485 1993年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Emissive probe as a reference electrode in probe measurements 査読あり
木村高志、大江一行
Review of Scientific Instruments 64 ( 11 ) 3274 - 3277 1993年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Electron energy distribution detection in symmetrically driven rf argon discharge 査読あり
木村高志 大江一行
Japanese Journal of Applied Physics 32 ( 8 ) 3601 - 3605 1993年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Electron energy distribution function in Neon-Nitrogen mixture positive column 査読あり
木村高志 大江一行
Japanese Journal of Applied Physics 31 ( 12 ) 4051 - 4052 1992年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Three-dimensional structure of finite-amplitude ionization wave packets in He positive columns 査読あり
K Ohe，A Naito, T Kimura and N Iwama
Physics of Fluids B 3 ( 12 ) 3302 - 3311 1991年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Electron energy distribution function in fluctuating plasmas 査読あり
木村高志、大江一行
Japanese Journal of Applied Physics 30 ( 4 ) 848 - 853 1991年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Detection of electron energy distribution function by finite impulse response filter 査読あり
木村高志、米谷昭彦、大江一行
Japanese Journal of Applied Physics 30 ( 8 ) 1877 - 1881 1991年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Behaviors of ionization wave packets within finite positive columns 査読あり
大江一行、木村高志
Journal of Applied Physics 70 ( 12 ) 7282 - 7288 1991年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Time-resolved electron energy distribution function in time-varying weakly ionized plasmas 査読あり
大江一行、木村高志
Japanese Journal of Applied Physics 28 ( 10 ) 1997 - 2003 1989年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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Temporally and spatially resolved wave fluctuations in helium positive columns 査読あり
大江一行、木村高志
Journal of Physics D 22 ( 10 ) 266 - 271 1989年04月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌）
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