講演・口頭発表等 - 木村 高志
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ホロ－形状ターゲットを持つ高電力パルススパッタの電気特性
木村高志，三島俊彦
第34回プラズマプロセシング研究会/第29回プラズマ材料科学シンポジウム 応用物理学会
開催年月日： 2017年01月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：北海道大学
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Surface Modification of DLC Films by Plasma Based Nitrogen Ion Implantation Method
H. Yanai, T. Kimura , S. Nakao and K. Azuma
日本MRS年次大会 日本MRS
開催年月日： 2016年12月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：横浜開港記念会館
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Preparation of Conductive DLC Films by High Power Pulsed Magnetron Sputtering Combined with Plasma Based Ion Implantation System
T. Kimura, H. Kamata, S. Nakao and K. Azuma
日本MRS年次大会 日本MRS
開催年月日： 2016年12月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：横浜市開港記念会館
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The deposition of Titanium Nitride thin film using a high-power pulse Penning sputtering under the Argon/Nitrogen mixture gas atmosphere 国際会議
Y. Kusuhashi, K. Azuma, T. Kimura
APSPT-9/SPSM-28 APSPT-9/SPSM-28 International Organizing Committee
開催年月日： 2015年12月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：Nagasaki University
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Formation of hydrogenated amorphous carbon films by reactive high power impulse magnetron sputtering containing C2H2 gas 国際会議
Takashi Kimura, Hikaru Kamata
ICRP-9/SPP-33/GEC-68 The Japanese Society of Applied Physics, American Physical Society
開催年月日： 2015年10月
記述言語：英語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：Hawaii Convention Center, Honolulu, USA
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Preparation of hydrogenated diamond-like carbon films by reactive Ar/CH4 high power impulse magnetron sputtering with negative pulse voltage 国際会議
Takashi Kimura, Hikaru Kamata
ICRP-9/SPP-33/GEC-68 The Japanese Society of Applied Physics, American Physical Society
開催年月日： 2015年10月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：Hawaii Convention Center, Honolulu,USA
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Conductive DLC films prepared by high power pulsed magnetron sputtering with bipolar pulse voltage source for substrate 国際会議
Takashi Kimura, Taku Suyama, Kingo Azuma, Setsuo Nakao, Tsutomu Sonoda, Takeshi Kusumori, Kimihiro Ozaki
AEPSE2015 AJC-APSE
開催年月日： 2015年09月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：Ramada Plaza Hotel,Jeju, Korea
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対向ターゲット型ハイパワーパルススパッタの特性
三島 俊彦,木村 高志,東 欣吾,中尾 節男
第76回応用物理学会秋季学術講演会 応用物理学会
開催年月日： 2015年09月
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：名古屋国際会議場
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正負パルスバイアスシステムを持つ反応性HiPIMSによるTi含有およびSi含有DLCの成膜
鎌田 光速,木村 高志,中尾 節男,園田 勉,楠森 毅,尾崎 公洋,東 欣吾
第76回応用物理学会秋季学術講演会 応用物理学会
開催年月日： 2015年09月
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：名古屋国際会議場
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Preparation of DLC films by high power pulsed magnetron sputtering with facing targets 国際会議
TOSHIHIKO MISHIMA, TAKASHI KIMURA, KINGO AZUMA AND SETSUO NAKAO
International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications The Japan Society of Applied Physics
開催年月日： 2015年03月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：Nagoya University
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Deposition of amorphous carbon films by inductively coupled discharges containing hydrocarbon gases 国際会議
木村高志、西村亮太郎、杉野幸也
International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications
開催年月日： 2013年01月 - 2013年02月
記述言語：英語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：Nagoya University
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Global Model of inductively coupled CH4/H2 Plasmas
Takashi Kimura
plasma conference2011 日本応用物理学会、プラズマ核融合学会
開催年月日： 2011年11月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：金沢
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Properties of high power pulsed magnetron sputtering plasma for deposition of diamond-like carbon (DLC) films
Takashi Kimura, Ryoutaro Nishimura, Masayasu Iida
Plasma Conference2011 日本応用物理学会，プラズマ核融合学会
開催年月日： 2011年11月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：金沢
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Properties of inductively coupled rf Ne/N2 plasmas
Takashi Kimura, Ryoutaro Nishimura
Plasma Conference 2011 日本応用物理学会，プラズマ核融合学会
開催年月日： 2011年11月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：金沢
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Deposition of diamond-like carbon films by ｈigh power pulsed magnetron sputtering 国際会議
Takashi Kimura, Masayasu Iida
International sysmposium on dry process 日本応用物理学会
開催年月日： 2011年11月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：京都ガーデンパレスホテル，日本
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パルスマグネトロンスパッタリングによるダイヤモンドライクカ－ボン成膜
木村高志、飯田将康
電気学会プラズマ研究会 電気学会
開催年月日： 2011年05月
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：富山大学
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Aｒで希釈された誘導性結合反応性プラズマの特性
木村高志
電気学会研究会 電気学会
開催年月日： 2011年03月
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：東京工業大学
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Properties of high pressure RF He/CH4 discharges 国際会議
Shotaro Kanzaki, Akinori Oda, Takashi Kimura
International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials
開催年月日： 2011年03月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：名古屋工業大学
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誘導性結合高周波CH4/H2プラズマの実験とグロ-バルモデル
木村高志，春日井宏樹
電気学会プラズマ研究会 電気学会
開催年月日： 2010年12月
記述言語：日本語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：東京工業大学
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Properties of inductively coupled rf CH4/H2 discharges 国際会議
Takashi Kimura, Hiroki Kasugai
気体電子工学国際会議＆反応性プラズマ国際会議
開催年月日： 2010年10月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：Paris
