講演・口頭発表等 - 木村　高志

マルチ短パルスHiPIMSにより作成したDLC薄膜の特性

尾関 健太，木村 高志

第24回日本表面真空学会中部支部学術講演会(若手講演会)  2024年12月  日本表面真空学会中部支部

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開催年月日： 2024年12月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：名古屋大学   国名：日本国  

Fabrication of metal oxide thin film via HiPIMS combined with multi-pulse magnetron sputtering 国際会議

Shunsuke Ando and Takashi Kimura

The 17th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes  2024年07月  The Japan Society of Vacuum and Surface Science

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開催年月日： 2024年07月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Kyoto Research Park   国名：日本国  

Comparison of properties of diamond-like carbon films prepared via multi-pulse HiPIMS and single-pulse HiPIMS 国際会議

Kenta Ozeki and Takashi Kimura

The 17th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes  2024年07月  The Japan Society of Vacuum and Surface Science

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開催年月日： 2024年07月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Kyoto Research Park   国名：日本国  

マルチパルスHiPIMSにより作成したダイアモンドライクカーボン膜の特性

尾関 健太，木村 高志

第41回プラズマプロセッシング研究会  2024年01月  日本応用物理学会

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開催年月日： 2024年01月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：東京工業大学   国名：日本国  

マルチパルススパッタリングと組みわせたHiPIMSによる 金属酸化薄膜の作成

安藤 俊輔，木村 高志

第41回プラズマプロセッシング研究会  2024年01月  日本応用物理学会

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開催年月日： 2024年01月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：東京工業大学   国名：日本国  

Vanadium oxide films synthesized via reactive HiPIMS combined with multi pulse magnetron sputtering 国際会議

Takashi Kimura and Yoshinobu Takagi

44th International Symposium on Dry Process   2023年11月  The JapanSociety of Applied Physics

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開催年月日： 2023年11月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Winc Aichi   国名：日本国  

Hard diamond-like carbon thin film deposited by multi pulse HiPIMS

Kenta Ozeki and Takashi Kimura

2023年10月 

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開催年月日： 2023年10月 - 2023年11月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

国名：日本国  

Fabrication of zirconium oxide films by reactive HiPIMS combined with multi pulse magnetron sputtering

Shunsuke Ando and Takashi Kimura

2023年10月 

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開催年月日： 2023年10月 - 2023年11月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

国名：日本国  

Synthesis of diamond-like carbon thin film via multi pulse high-power impulse magnetron sputtering 国際会議

Takashi Kimura

75th Annual Gaseous Electronics Conference/11th International Conference on Reactive Plasmas  2022年10月  American Physical Society/The Japan Society of Applied Physics

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開催年月日： 2022年10月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Sendai International Center   国名：日本国  

その他リンク： https://meetings.aps.org/Meeting/GEC22/Session/HT4.71

Properties of vanadium oxide film prepared using pulsed magnetron sputtering

Yoshinobu Takagi, Takashi Kimura

75th Annual Gaseous Electronics Conference/11th International Conference on Reactive Plasmas  2022年10月  American Physical Society/The Japan Society of Applied Physics

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開催年月日： 2022年10月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Sendai International Center   国名：日本国  

その他リンク： https://meetings.aps.org/Meeting/GEC22/Session/HW6.71

Si content dependence of TiSiN films prepared by reactive high power pulsed sputtering Penning discharges 国際会議

Takashi Kimura, Ryo Yoshida, Kingo Azuma

The 11th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-11)  International Organizing Committee of APSPST, IEEJ Electric Discharge, Plasma and Pulse Power Committee

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開催年月日： 2019年12月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：The Kanazawa Chamber of Commerce & Industry, Kanazawa , Japan  

Properties of Titanium–Vanadium Nitride Films Prepared By Reactive High Power Pulsed Sputtering Penning Discharges 国際会議

Takashi Kimura, Ryo Yoshida, Kingo Azuma

The 11th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-11)   International Organizing Committee of APSPST, IEEJ Electric Discharge, Plasma and Pulse Power Committee

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開催年月日： 2019年12月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：The Kanazawa Chamber of Commerce & Industry, Kanazawa , Japan  

Double Pulsing Method for Preparation of Hard DLC Films in High Power Pulsed Magnetron Sputtering System 国際会議

Takashi Kimura and Kento Sakai

12th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2019)  Asian Joint Committee for Applied Plasma Science and Engineering

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開催年月日： 2019年09月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Maison Glad Hotel, Jeju Island, Korea  

Properties of TiSiN films Prepared by High Power Pulsed Sputtering Penning Discharge 国際会議

Takashi Kimura, Ryo Yoshida and Kingo Azuma

12th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2019)  Asian Joint Committee for Applied Plasma Science and Engineering

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開催年月日： 2019年09月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Maison Glad Hotel, Jeju Island, Korea  

Influence of small amount of hydrocarbon gas mixture on properties of DLC films in high power impulse magnetron sputtering system 国際会議

Takashi Kimura, Kento Sakai

XXXIV International Conference on Phenomena in Ionized Gases (XXXIV ICPIG) and the 10th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-10)  第34回電離気体現象国際会議(XXXIV ICPIG)/第10回反応性プラズマ国際会議(ICRP-10) 実行委員会

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開催年月日： 2019年07月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Sapporo Education and Culture Hall, Sapporo, Hokkaido, Japan  

Properties of titanium oxynitride films prepared by reactive high power pulsed magnetron sputtering 国際会議

Takashi Kimura, Takahiro Tanaka

XXXIV International Conference on Phenomena in Ionized Gases (XXXIV ICPIG) and the 10th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-10)  第34回電離気体現象国際会議(XXXIV ICPIG)/第10回反応性プラズマ国際会議(ICRP-10) 実行委員会

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開催年月日： 2019年07月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Sapporo Education and Culture Hall, Sapporo, Hokkaido, Japan  

Deposition of Si-doped DLC films by reactive HiPIMS combined with PBII system 国際会議

Takashi Kimura, Yuki Shibata,Setsuo Nakao and Kingo Azuma

ISSP2019: The 15th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes  The Japan Society of Vacuum and Surface Science

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開催年月日： 2019年06月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：金沢工業大学  

Preparation of TiN films by reactive high power pulsed sputter Penning-type discharges 国際会議

T. Mishima, T. Kimura, R. Yoshida, K. Azuma, S. Nakao

39th Internatioal Symposium on Dry Process  The Japan Society of Applied Physics

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開催年月日： 2017年11月

記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：Tokyo Institute of Technology  

Plasma Based Nitrogen Ion Implantation to Hydrogenated Diamond-like Carbon Films 国際会議

T. Kimura, H.Yanai, S. Nakao, and K. Azuma

11th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering  Asian Joint Committee for Applied Plasma Science and Engineering

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開催年月日： 2017年09月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Jeju, Republic of Korea  

対向タ－ゲット型反応性HPPSによるTiCN膜の作製

三島俊彦、吉田涼、中尾 節男、東 欣吾、木村 高志

第78回応用物理学会秋季学術講演会  応用物理学会

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開催年月日： 2017年09月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：福岡国際会議場  

ホロ－形状ターゲットを持つ高電力パルススパッタの電気特性

木村高志，三島俊彦

第34回プラズマプロセシング研究会/第29回プラズマ材料科学シンポジウム  応用物理学会

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開催年月日： 2017年01月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：北海道大学  

Surface Modification of DLC Films by Plasma Based Nitrogen Ion Implantation Method

H. Yanai, T. Kimura , S. Nakao and K. Azuma

日本MRS年次大会  日本MRS

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開催年月日： 2016年12月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：横浜開港記念会館  

Preparation of Conductive DLC Films by High Power Pulsed Magnetron Sputtering Combined with Plasma Based Ion Implantation System

T. Kimura, H. Kamata, S. Nakao and K. Azuma

日本MRS年次大会  日本MRS

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開催年月日： 2016年12月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：横浜市開港記念会館  

The deposition of Titanium Nitride thin film using a high-power pulse Penning sputtering under the Argon/Nitrogen mixture gas atmosphere 国際会議

Y. Kusuhashi, K. Azuma, T. Kimura

APSPT-9/SPSM-28  APSPT-9/SPSM-28 International Organizing Committee

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開催年月日： 2015年12月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Nagasaki University  

Formation of hydrogenated amorphous carbon films by reactive high power impulse magnetron sputtering containing C2H2 gas 国際会議

Takashi Kimura, Hikaru Kamata

ICRP-9/SPP-33/GEC-68  The Japanese Society of Applied Physics, American Physical Society

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開催年月日： 2015年10月

記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：Hawaii Convention Center, Honolulu, USA  

Preparation of hydrogenated diamond-like carbon films by reactive Ar/CH4 high power impulse magnetron sputtering with negative pulse voltage 国際会議

Takashi Kimura, Hikaru Kamata

ICRP-9/SPP-33/GEC-68  The Japanese Society of Applied Physics, American Physical Society

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開催年月日： 2015年10月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Hawaii Convention Center, Honolulu,USA  

Conductive DLC films prepared by high power pulsed magnetron sputtering with bipolar pulse voltage source for substrate 国際会議

Takashi Kimura, Taku Suyama, Kingo Azuma, Setsuo Nakao, Tsutomu Sonoda, Takeshi Kusumori, Kimihiro Ozaki

AEPSE2015  AJC-APSE

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開催年月日： 2015年09月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Ramada Plaza Hotel,Jeju, Korea  

対向ターゲット型ハイパワーパルススパッタの特性

三島 俊彦,木村　高志,東　欣吾,中尾　節男

第76回応用物理学会秋季学術講演会  応用物理学会

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開催年月日： 2015年09月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：名古屋国際会議場  

正負パルスバイアスシステムを持つ反応性HiPIMSによるTi含有およびSi含有DLCの成膜

鎌田 光速,木村 高志,中尾 節男,園田 勉,楠森 毅,尾崎 公洋,東 欣吾

第76回応用物理学会秋季学術講演会  応用物理学会

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開催年月日： 2015年09月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：名古屋国際会議場  

Preparation of DLC films by high power pulsed magnetron sputtering with facing targets 国際会議

TOSHIHIKO MISHIMA, TAKASHI KIMURA, KINGO AZUMA AND SETSUO NAKAO

International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications  The Japan Society of Applied Physics

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開催年月日： 2015年03月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Nagoya University  

Deposition of amorphous carbon films by inductively coupled discharges containing hydrocarbon gases 国際会議

木村高志、西村亮太郎、杉野幸也

International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications  

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開催年月日： 2013年01月 - 2013年02月

記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：Nagoya University  

Global Model of inductively coupled CH₄/H₂ Plasmas

Takashi　Kimura

plasma conference2011  日本応用物理学会、プラズマ核融合学会

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開催年月日： 2011年11月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：金沢  

Properties of high power pulsed magnetron sputtering plasma for deposition of diamond-like carbon (DLC) films

Takashi Kimura, Ryoutaro Nishimura, Masayasu Iida

Plasma Conference2011  日本応用物理学会，プラズマ核融合学会

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開催年月日： 2011年11月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：金沢  

Properties of inductively coupled rf Ne/N₂ plasmas

Takashi Kimura, Ryoutaro Nishimura

Plasma Conference 2011  日本応用物理学会，プラズマ核融合学会

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開催年月日： 2011年11月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：金沢  

Deposition of diamond-like carbon films by ｈigh power pulsed magnetron sputtering 国際会議

Takashi　Kimura, Masayasu Iida

International sysmposium on dry process  日本応用物理学会

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開催年月日： 2011年11月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：京都ガーデンパレスホテル，日本  

パルスマグネトロンスパッタリングによるダイヤモンドライクカ－ボン成膜

木村高志、飯田将康

電気学会プラズマ研究会  電気学会

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開催年月日： 2011年05月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：富山大学  

Aｒで希釈された誘導性結合反応性プラズマの特性

木村高志

電気学会研究会  電気学会

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開催年月日： 2011年03月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：東京工業大学  

Properties of high pressure RF He/CH₄ discharges 国際会議

Shotaro Kanzaki, Akinori Oda, Takashi Kimura

International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials  

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開催年月日： 2011年03月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：名古屋工業大学  

誘導性結合高周波CH₄/H₂プラズマの実験とグロ-バルモデル

木村高志，春日井宏樹

電気学会プラズマ研究会  電気学会

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開催年月日： 2010年12月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：東京工業大学  

Properties of inductively coupled rf CH₄/H₂ discharges 国際会議

Takashi Kimura, Hiroki Kasugai

気体電子工学国際会議＆反応性プラズマ国際会議 

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開催年月日： 2010年10月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Paris  

Deposition of fluorinated diamond-like carbon films using pulsed plasma thruster 国際会議

Takashi Kimura, Masayasu Iida

気体電子工学国際会議＆反応性プラズマ国際会議 

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開催年月日： 2010年10月

記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

開催地：Paris  

電熱加速型パルスプラズマ曝露によるフッ化炭素膜の堆積

飯田将康，木村高志

プラズマ研究会  電気学会プラズマ研究会

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開催年月日： 2010年08月

記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

開催地：岐阜県民文化ホール未来会館