講演・口頭発表等 - 木村　高志

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  • マルチ短パルスHiPIMSにより作成したDLC薄膜の特性

    尾関 健太，木村 高志

    第24回日本表面真空学会中部支部学術講演会(若手講演会)  2024年12月  日本表面真空学会中部支部

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    開催年月日： 2024年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：名古屋大学   国名：日本国  

  • Fabrication of metal oxide thin film via HiPIMS combined with multi-pulse magnetron sputtering 国際会議

    Shunsuke Ando and Takashi Kimura

    The 17th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes  2024年07月  The Japan Society of Vacuum and Surface Science

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    開催年月日： 2024年07月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Kyoto Research Park   国名：日本国  

  • Comparison of properties of diamond-like carbon films prepared via multi-pulse HiPIMS and single-pulse HiPIMS 国際会議

    Kenta Ozeki and Takashi Kimura

    The 17th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes  2024年07月  The Japan Society of Vacuum and Surface Science

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    開催年月日： 2024年07月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Kyoto Research Park   国名：日本国  

  • マルチパルスHiPIMSにより作成したダイアモンドライクカーボン膜の特性

    尾関 健太，木村 高志

    第41回プラズマプロセッシング研究会  2024年01月  日本応用物理学会

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    開催年月日： 2024年01月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：東京工業大学   国名：日本国  

  • マルチパルススパッタリングと組みわせたHiPIMSによる 金属酸化薄膜の作成

    安藤 俊輔，木村 高志

    第41回プラズマプロセッシング研究会  2024年01月  日本応用物理学会

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    開催年月日： 2024年01月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：東京工業大学   国名：日本国  

  • Vanadium oxide films synthesized via reactive HiPIMS combined with multi pulse magnetron sputtering 国際会議

    Takashi Kimura and Yoshinobu Takagi

    44th International Symposium on Dry Process   2023年11月  The JapanSociety of Applied Physics

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    開催年月日： 2023年11月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Winc Aichi   国名：日本国  

  • Hard diamond-like carbon thin film deposited by multi pulse HiPIMS

    Kenta Ozeki and Takashi Kimura

    2023年10月 

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    開催年月日： 2023年10月 - 2023年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  • Fabrication of zirconium oxide films by reactive HiPIMS combined with multi pulse magnetron sputtering

    Shunsuke Ando and Takashi Kimura

    2023年10月 

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    開催年月日： 2023年10月 - 2023年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    国名：日本国  

  • Synthesis of diamond-like carbon thin film via multi pulse high-power impulse magnetron sputtering 国際会議

    Takashi Kimura

    75th Annual Gaseous Electronics Conference/11th International Conference on Reactive Plasmas  2022年10月  American Physical Society/The Japan Society of Applied Physics

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    開催年月日： 2022年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Sendai International Center   国名：日本国  

    その他リンク： https://meetings.aps.org/Meeting/GEC22/Session/HT4.71

  • Properties of vanadium oxide film prepared using pulsed magnetron sputtering

    Yoshinobu Takagi, Takashi Kimura

    75th Annual Gaseous Electronics Conference/11th International Conference on Reactive Plasmas  2022年10月  American Physical Society/The Japan Society of Applied Physics

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    開催年月日： 2022年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Sendai International Center   国名：日本国  

    その他リンク： https://meetings.aps.org/Meeting/GEC22/Session/HW6.71

  • Si content dependence of TiSiN films prepared by reactive high power pulsed sputtering Penning discharges 国際会議

    Takashi Kimura, Ryo Yoshida, Kingo Azuma

    The 11th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-11)  International Organizing Committee of APSPST, IEEJ Electric Discharge, Plasma and Pulse Power Committee

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    開催年月日： 2019年12月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：The Kanazawa Chamber of Commerce & Industry, Kanazawa , Japan  

  • Properties of Titanium–Vanadium Nitride Films Prepared By Reactive High Power Pulsed Sputtering Penning Discharges 国際会議

    Takashi Kimura, Ryo Yoshida, Kingo Azuma

    The 11th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-11)   International Organizing Committee of APSPST, IEEJ Electric Discharge, Plasma and Pulse Power Committee

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    開催年月日： 2019年12月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：The Kanazawa Chamber of Commerce & Industry, Kanazawa , Japan  

  • Double Pulsing Method for Preparation of Hard DLC Films in High Power Pulsed Magnetron Sputtering System 国際会議

    Takashi Kimura and Kento Sakai

    12th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2019)  Asian Joint Committee for Applied Plasma Science and Engineering

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    開催年月日： 2019年09月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Maison Glad Hotel, Jeju Island, Korea  

  • Properties of TiSiN films Prepared by High Power Pulsed Sputtering Penning Discharge 国際会議

    Takashi Kimura, Ryo Yoshida and Kingo Azuma

    12th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2019)  Asian Joint Committee for Applied Plasma Science and Engineering

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    開催年月日： 2019年09月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Maison Glad Hotel, Jeju Island, Korea  

  • Influence of small amount of hydrocarbon gas mixture on properties of DLC films in high power impulse magnetron sputtering system 国際会議

    Takashi Kimura, Kento Sakai

    XXXIV International Conference on Phenomena in Ionized Gases (XXXIV ICPIG) and the 10th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-10)  第34回電離気体現象国際会議(XXXIV ICPIG)/第10回反応性プラズマ国際会議(ICRP-10) 実行委員会

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    開催年月日： 2019年07月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Sapporo Education and Culture Hall, Sapporo, Hokkaido, Japan  

  • Properties of titanium oxynitride films prepared by reactive high power pulsed magnetron sputtering 国際会議

    Takashi Kimura, Takahiro Tanaka

    XXXIV International Conference on Phenomena in Ionized Gases (XXXIV ICPIG) and the 10th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-10)  第34回電離気体現象国際会議(XXXIV ICPIG)/第10回反応性プラズマ国際会議(ICRP-10) 実行委員会

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    開催年月日： 2019年07月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Sapporo Education and Culture Hall, Sapporo, Hokkaido, Japan  

  • Deposition of Si-doped DLC films by reactive HiPIMS combined with PBII system 国際会議

    Takashi Kimura, Yuki Shibata,Setsuo Nakao and Kingo Azuma

    ISSP2019: The 15th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes  The Japan Society of Vacuum and Surface Science

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    開催年月日： 2019年06月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：金沢工業大学  

  • Preparation of TiN films by reactive high power pulsed sputter Penning-type discharges 国際会議

    T. Mishima, T. Kimura, R. Yoshida, K. Azuma, S. Nakao

    39th Internatioal Symposium on Dry Process  The Japan Society of Applied Physics

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    開催年月日： 2017年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：Tokyo Institute of Technology  

  • Plasma Based Nitrogen Ion Implantation to Hydrogenated Diamond-like Carbon Films 国際会議

    T. Kimura, H.Yanai, S. Nakao, and K. Azuma

    11th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering  Asian Joint Committee for Applied Plasma Science and Engineering

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    開催年月日： 2017年09月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Jeju, Republic of Korea  

  • 対向タ－ゲット型反応性HPPSによるTiCN膜の作製

    三島俊彦、吉田涼、中尾 節男、東 欣吾、木村 高志

    第78回応用物理学会秋季学術講演会  応用物理学会

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    開催年月日： 2017年09月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭発表（一般）  

    開催地：福岡国際会議場  

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