市村 正也 (イチムラ マサヤ)

ICHIMURA Masaya

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所属学科・専攻等

電気・機械工学科 電気電子分野
工学専攻 電気電子プログラム

職名

教授

連絡先

連絡先

外部リンク

学位

  • 工学修士 ( 京都大学 )

  • 工学博士 ( 京都大学 )

研究分野

  • ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電気電子材料工学

出身学校

  • 京都大学   工学部   電気工学   卒業

    - 1983年03月

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    国名:日本国

出身大学院

  • 京都大学   工学研究科   電気工学   博士課程   修了

    - 1988年03月

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    国名:日本国

所属学協会

  • 日本MRS

    2010年09月 - 現在

  • 表面真空学会

  • 電気学会

  • 応用物理学会

 

研究経歴

  • 半導体薄膜の電気・光化学堆積

    (選択しない)  

    研究期間:

  • 半導体の電気的特性の評価

    (選択しない)  

    研究期間:

論文

  • Concentrations Influence of Complexing Agents on the Physicochemical Properties of Chemical Bath Deposited n-type FeSxOy for Homostructure Solar Cell 査読あり 国際共著

    A. A. Ariff, A. Supee, M. Ichimura, M. Z. Mohd Yusop, A. Abdul Jalil

    Physica Status Solidi (a)   221   2400376   2024年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: https://doi.org/10.1002/pssa.202400376

  • Drop-dry deposition of SnO2 using Na2SnO3 and fabrication of SnO2/NiO transparent solar cells 査読あり

    M. Ichimura, T. Okada, A. Fukuda, T. Li

    J. Electron. Mater.   53   5265 - 5272   2024年09月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: https://doi.org/10.1007/s11664-024-11254-y

  • Low-temperature deposition of β-Ga2O3 thin films employing in situ pulsed laser-assisted RF sputtering system 査読あり 国際共著

    Y.Y. Huh, C.H. Jo, M. Ichimura, J.H. Koh

    Mat. Sci. Semicond. Proc.   179   108428   2024年08月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: https://doi.org/10.1016/j.mssp.2024.108428

  • Enhanced soft piezoelectric properties of Sb2O3 doped 0.5Ba(Zr0.2Ti0.8)O3-0.5(Ba0.7Ca0.3)TiO3 materials 査読あり 国際共著

    T.W. Kim, G. Lee, M. Ichimura, J.H. Koh

    J. Alloy Comp.   987   174163   2024年06月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2024.174163

  • Dip-dry deposition of semiconducting aluminum oxide-hydroxide thin films 査読あり

    M. Ichimura, C. Baixian, T. Li

    Jpn. J. Appl. Phys.   63   018001   2024年01月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: https://doi.org/10.35848/1347-4065/ad1423

  • Theoretical study of doping in GaOOH for electronics applications 査読あり

    Electron. Mater.   4 ( 4 )   148 - 157   2023年11月

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    担当区分:筆頭著者, 責任著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    その他リンク: https://www.mdpi.com/2673-3978/4/4/13

  • Drop-Dry Deposition of SnO2 Using a Complexing Agent and Fabrication of Heterojunctions with Co3O4 査読あり

    T. Li, M. Ichimura

    Materials   16   5273   2023年08月

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    担当区分:最終著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    その他リンク: https://www.mdpi.com/1996-1944/16/15/5273

  • Low temperature processed CO2 laser-assisted RF-sputtered GaN thin film for wide bandgap semiconductors 査読あり 国際共著

    S.-H. Kim, C.-H. Jo, M.-S. Bae, M. Ichimura and J.-H. Koh

    J. Asian Ceramic Soc.   10 ( 1 )   68 - 79   2023年01月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Fabrication of Transparent ZnO/Cu-Mg(OH)2 Heterojunction Diodes by Electrochemical Deposition 査読あり

    M. Ichimura, M. Tanaka, T. Li

    Solid St. Electron.   198   108479   2022年12月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Drop-dry deposition of Ni(OH)2 precursors for fabrication of NiO thin films 査読あり

    T. Li, T. Okada, M. Ichimura

    Materials   15   4513   2022年07月

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    担当区分:責任著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

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書籍等出版物

  • 太陽電池入門

    市村正也( 担当: 単著)

    オーム社  2012年04月  ( ISBN:978-4-274-21191-1

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    記述言語:日本語   著書種別:学術書

  • 工学系のための応用数学

    市村正也, 森田良文( 担当: 共著)

    森北出版  2018年09月  ( ISBN:978-4-627-08201-4

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    記述言語:日本語   著書種別:教科書・概説・概論

  • 高校化学からはじめる半導体

    市村正也( 担当: 単著)

    オーム社  2011年03月  ( ISBN:978-4-274-20996-3

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    記述言語:日本語   著書種別:教科書・概説・概論

  • 新インターユニバーシティ固体電子物性

    -( 担当: 共著)

    オーム社  2009年04月 

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    記述言語:日本語  

  • 新インターユニバーシティ半導体工学

    -( 担当: 共著)

    オーム社  2009年04月 

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    記述言語:日本語  

  • インターユニバーシティ半導体工学

    -( 担当: 共著)

    オーム社  1999年04月 

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    記述言語:日本語  

  • 半導体物性工学

    -( 担当: 共著)

    朝倉書店  1990年04月 

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    記述言語:日本語  

MISC

  • 水素エネルギーと地球温暖化対策 査読あり

    市村正也

    日本の科学者   58 ( 3 )   150 - 154   2023年03月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語   掲載種別:記事・総説・解説・論説等(学術雑誌)  

    その他リンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/jjsci/58/3/58_38/_article/-char/ja/

  • 太陽電池の研究は何を目指すべきか 査読あり

    市村

    日本の科学者   56 ( 6 )   42   2021年06月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語   掲載種別:記事・総説・解説・論説等(学術雑誌)  

  • 真空度測定のコツ 招待あり 査読あり

    市村正也

    応用物理   85 ( 6 )   508   2016年06月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語   掲載種別:記事・総説・解説・論説等(学術雑誌)  

  • 真空技術のコツ

    市村正也

    応用物理   85 ( 1 )   49 - 52   2016年01月

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    記述言語:日本語   掲載種別:記事・総説・解説・論説等(学術雑誌)   出版者・発行元:応用物理学会  

  • 真空技術超入門

    市村正也

    Journal of the Vacuum Society of Japan(真空)   58 ( 8 )   273 - 281   2015年08月

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    記述言語:日本語   掲載種別:記事・総説・解説・論説等(学術雑誌)   出版者・発行元:日本真空学会  

  • 電気化学堆積法を用いたSnS 系ヘテロ接合太陽電池の開発

    市村正也

    高効率太陽電池-化合物・集光型・量子ドット型・Si・有機系・その他材料-   106 - 113   2012年05月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語   掲載種別:記事・総説・解説・論説等(その他)   出版者・発行元:NTS  

  • 硫化物を用いた薄膜太陽電池

    市村正也

    月間ディスプレイ   17 ( 10 )   41 - 46   2011年10月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:日本語   掲載種別:記事・総説・解説・論説等(商業誌、新聞、ウェブメディア)   出版者・発行元:テクノタイムズ社  

  • 薄膜シリコン太陽電池

    市村正也

    最新太陽電池技術の徹底検証・今後の展開   29 - 36   2008年11月

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    記述言語:日本語   掲載種別:記事・総説・解説・論説等(その他)   出版者・発行元:情報機構  

講演・口頭発表等

  • 溶液を用いる半導体薄膜堆積 招待あり

    市村正也

    電気学会C部門電子材料研究会  2024年11月  電気学会

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    開催年月日: 2024年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:大阪   国名:日本国  

  • Possibility of Doping in GaOOH 国際会議

    M. Ichimura

    Grand Meeting MRM&ICA2023  2023年12月  Materials Research Society of Japan

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    開催年月日: 2023年12月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Kyoto   国名:日本国  

  • Dip-dry Deposition of Semiconducting Al-O Thin Films 国際会議

    M. Ichimura, C. Baixian, T. Li

    Grand Meeting MRM&ICA2023  2023年12月  Materials Research Society of Japan

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    開催年月日: 2023年12月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Kyoto   国名:日本国  

  • Fe2O3-based pn junction solar cells with a Mg(OH)2 interface layer

    M. Ichimura, R. Takayanagi

    Symposium on Earth-Abundant Materials for Future Photovoltaics  2022年06月  École Polytechnique Fédérale de Lausanne

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    開催年月日: 2022年06月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

  • Fabrication of Transparent ZnO/Cu-Mg(OH)2 Heterojunction Diodes by Electrochemical Deposition 国際会議

    M. Tanaka, M. Ichimura

    Material Research Meeting 2021 

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    開催年月日: 2021年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

  • Drop-dry Deposition of Co3O4 and Fabrication of Heterojunctions with Electrochemically Deposited ZnO 国際会議

    T. Li, M. Ichimura

    Material Research Meeting 2021 

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    開催年月日: 2021年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

  • Fabrication of Transparent ZnO/(CuZn)O Heterojunction Diodes by Electrochemical Deposition 国際会議

    M. KEIKHAEI, M. ICHIMURA

    Materials Research Meeting 2019 

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    開催年月日: 2019年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

  • Fabrication of ZnO/Co3O4 Heterojunction by Electrochemical Deposition 国際会議

    Y. TOMITA, M. ICHIMURA

    Materials Research Meeting 2019 

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    開催年月日: 2019年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

  • Fe2O3-based pn junction solar cell fabricated by electrochemical deposition 国際会議

    M. ICHIMURA, S. KOBAYASHI

    Materials Research Meeting 2019 

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    開催年月日: 2019年12月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

  • Fabrication of ZnO/NiO transparent solar cells by electrochemical deposition 国際会議

    M. Koyama, M. Ichimura

    7th Int. Symp. Organic and Inorganic Electronic Matererials and Related Nanotechnology 

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    開催年月日: 2019年06月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

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産業財産権

  • 光起電力素子およびその製造方法

    川井正一、祖父江進、市村正也

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    出願番号:特願2013-171577  出願日:2013年11月

    出願国:国内   取得国:国内

  • Method for forming gold plating

    Masaya Ichimura, Kanji Masui

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    出願番号:10/895498  出願日:2004年07月

    公開番号:7641944B2  公開日:2010年03月

    特許番号/登録番号:7641944  登録日:2010年01月  発行日:2010年01月

    出願国:外国   取得国:外国

  • 光析出による金メッキ法及び金メッキ膜形成装置

    市村正也, 増井寛二

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    出願人:東海理化

    出願番号:2004-210430  出願日:2004年07月

    公開番号:2005-60828  公開日:2005年03月

    特許番号/登録番号:4521228  登録日:2010年05月  発行日:2010年05月

    出願国:国内   取得国:国内

  • 化合物半導体の製造方法及び製造装置

    -市村正也,荒井英輔,後藤文孝

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    公開番号:2958448  公開日:1998年12月

    出願国:国内   取得国:国内

受賞

  • SEMI Silicon Wafer Committee, Technical Committee Award 2006

    2006年04月   -  

    -

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    受賞国:日本国

  • Prof. Ramasamy National Award for Crystal Growth 2004

    2004年04月   -  

    -

 

委員歴

  • 日本MRS   第20回日本MRS学術シンポジウムEセッションコチェア  

    2010年07月 - 2010年12月   

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    団体区分:学協会