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所属学科・専攻等 |
物理工学教育類 応用物理分野
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職名 |
准教授 |
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外部リンク |
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論文
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Properties of CrN/TiN multilayer films with nanoscale layer thickness 査読あり 国際誌
Takashi Kimura, Hiroki Maeda
IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE 51 ( 2 ) 327 - 332 2023年02月
担当区分：筆頭著者, 責任著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：IEEE
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Properties of multilayered CrN/VN films prepared using a hybrid system of high-power impulse magnetron sputtering and pulsed magnetron sputtering 査読あり 国際誌
Takashi Kimura, Hiroki Maeda
IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE 51 ( 2 ) 320 - 326 2023年02月
担当区分：筆頭著者, 責任著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：IEEE
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Titanium silicon nitride films with low silicon content deposited via reactive high-power pulsed sputtering Penning discharge 査読あり 国際誌
T. Kimura, R. Yoshida, K. Azuma
IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE 49 ( 1 ) 53 - 60 2021年01月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：IEEE
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Synthesis of hard diamond-like carbon films by double-pulse high-power impulse magnetron sputtering 査読あり 国際誌
T. Kimura, K. Sakai
Diamond & Related Materials 108 107996 2020年08月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：Elsevier
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Properties of titanium oxynitride films deposited on glass substrate by reactive high-power pulsed magnetron sputtering 査読あり 国際誌
T. Kimura, T. Tanaka
Japanese Journal of Applied Physics 59 SHHE03 2020年06月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：The Japan Society of Applied Physics
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Effects of adding hydrocarbon gas to a high-power impulse magnetron sputtering system on the properties of diamond-like carbon films 査読あり 国際誌
T. Kimura, K. Sakai
Thin solid films 701 137924 2020年05月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：Elsevier
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Preparation of silicon-doped diamond-like carbon films with electrical conductivity by reactive high-power impulse magnetron sputtering combined with a plasma-based ion implantation system 査読あり 国際誌
Y. Shibata, T.Kimura, S. Nakao, K.Azuma
Diamond & Related Materials 101 107635 2020年01月
記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：Elsevier
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Properties of titanium oxynitride films prepared by reactive high power pulsed magnetron sputtering
T.Kimura, T. Tanaka
XXXIV International COnference on Phenomena in ionzied gases 2019年07月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
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Deposition of Si-doped DLC films by reactive HiPIMS combined with PBII system
T. Kimura , Y. Shibata, S. Nakao and K. Azuma
Proceedings International symposium on sputtering & plasma processes 178 - 180 2019年06月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
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Preparation of titanium carbon nitride films by reactive high power pulsed sputtering Penning discharges 査読あり 国際誌
Takashi Kimura, Ryo Yoshida, Kingo Azuma, Setsuo Nakao
Vacuum 157 192 - 201 2018年11月
担当区分：筆頭著者 記述言語：英語 掲載種別：研究論文（学術雑誌） 出版者・発行元：Elsevier
書籍等出版物
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プラズマ材料表面処理技術の最新動向
プラズマ材料表面処理技術の最新動向調査専門委員会委員（１８名）（ 担当： 分担執筆 , 範囲： 第2章３節）
電気学会 2023年02月
総ページ数：72 担当ページ：5 記述言語：日本語 著書種別：調査報告書
講演・口頭発表等
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Synthesis of diamond-like carbon thin film via multi pulse high-power impulse magnetron sputtering 国際会議
Takashi Kimura
75th Annual Gaseous Electronics Conference/11th International Conference on Reactive Plasmas 2022年10月 American Physical Society/The Japan Society of Applied Physics
開催年月日： 2022年10月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：Sendai International Center 国名：日本国
その他リンク： https://meetings.aps.org/Meeting/GEC22/Session/HT4.71
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Properties of vanadium oxide film prepared using pulsed magnetron sputtering
Yoshinobu Takagi, Takashi Kimura
75th Annual Gaseous Electronics Conference/11th International Conference on Reactive Plasmas 2022年10月 American Physical Society/The Japan Society of Applied Physics
開催年月日： 2022年10月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：Sendai International Center 国名：日本国
その他リンク： https://meetings.aps.org/Meeting/GEC22/Session/HW6.71
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Si content dependence of TiSiN films prepared by reactive high power pulsed sputtering Penning discharges 国際会議
Takashi Kimura, Ryo Yoshida, Kingo Azuma
The 11th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-11) International Organizing Committee of APSPST, IEEJ Electric Discharge, Plasma and Pulse Power Committee
開催年月日： 2019年12月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：The Kanazawa Chamber of Commerce & Industry, Kanazawa , Japan
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Properties of Titanium–Vanadium Nitride Films Prepared By Reactive High Power Pulsed Sputtering Penning Discharges 国際会議
Takashi Kimura, Ryo Yoshida, Kingo Azuma
The 11th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-11) International Organizing Committee of APSPST, IEEJ Electric Discharge, Plasma and Pulse Power Committee
開催年月日： 2019年12月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：The Kanazawa Chamber of Commerce & Industry, Kanazawa , Japan
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Double Pulsing Method for Preparation of Hard DLC Films in High Power Pulsed Magnetron Sputtering System 国際会議
Takashi Kimura and Kento Sakai
12th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2019) Asian Joint Committee for Applied Plasma Science and Engineering
開催年月日： 2019年09月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：Maison Glad Hotel, Jeju Island, Korea
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Properties of TiSiN films Prepared by High Power Pulsed Sputtering Penning Discharge 国際会議
Takashi Kimura, Ryo Yoshida and Kingo Azuma
12th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2019) Asian Joint Committee for Applied Plasma Science and Engineering
開催年月日： 2019年09月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：Maison Glad Hotel, Jeju Island, Korea
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Influence of small amount of hydrocarbon gas mixture on properties of DLC films in high power impulse magnetron sputtering system 国際会議
Takashi Kimura, Kento Sakai
XXXIV International Conference on Phenomena in Ionized Gases (XXXIV ICPIG) and the 10th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-10) 第34回電離気体現象国際会議(XXXIV ICPIG)/第10回反応性プラズマ国際会議(ICRP-10) 実行委員会
開催年月日： 2019年07月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：Sapporo Education and Culture Hall, Sapporo, Hokkaido, Japan
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Properties of titanium oxynitride films prepared by reactive high power pulsed magnetron sputtering 国際会議
Takashi Kimura, Takahiro Tanaka
XXXIV International Conference on Phenomena in Ionized Gases (XXXIV ICPIG) and the 10th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-10) 第34回電離気体現象国際会議(XXXIV ICPIG)/第10回反応性プラズマ国際会議(ICRP-10) 実行委員会
開催年月日： 2019年07月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：Sapporo Education and Culture Hall, Sapporo, Hokkaido, Japan
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Deposition of Si-doped DLC films by reactive HiPIMS combined with PBII system 国際会議
Takashi Kimura, Yuki Shibata,Setsuo Nakao and Kingo Azuma
ISSP2019: The 15th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes The Japan Society of Vacuum and Surface Science
開催年月日： 2019年06月
記述言語：英語 会議種別：ポスター発表
開催地：金沢工業大学
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Preparation of TiN films by reactive high power pulsed sputter Penning-type discharges 国際会議
T. Mishima, T. Kimura, R. Yoshida, K. Azuma, S. Nakao
39th Internatioal Symposium on Dry Process The Japan Society of Applied Physics
開催年月日： 2017年11月
記述言語：英語 会議種別：口頭発表（一般）
開催地：Tokyo Institute of Technology