産業財産権 - 中村　修一

光学活性スルフィナートの製造法

融　健・柴田哲男・中村修一

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出願番号：特願2005-190997  出願日：2005年06月

公開番号：特開2007-008855  公開日：2007年01月

出願国：国内   取得国：国内

光学活性α-シリルメチル-β-ヒドロキシスルホキシド化合物の製造法

融　健・中村修一

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出願番号：特願2003-141238  出願日：2003年05月

公開番号：特開2004-345962  公開日：2004年01月

出願国：国内   取得国：国内