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学外略歴

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所属学会・委員会

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専門分野（科研費分類） 【 表示 ／ 非表示 】

専門分野（科研費分類）

研究経歴 【 表示 ／ 非表示 】

研究経歴

• 単結晶半導体を利用した人工光合成技術開発

  研究期間：  2010年04月  -  現在

• アナログ集積回路による低消費電力、高速信号処理

  個人研究  

  研究期間：  2003年03月  -  2017年03月

• 電気化学法による半導体の加工

  個人研究  

  研究期間：  2000年03月  -  現在

• ワイドギャップ半導体の電気的評価と評価技術の開発

  個人研究  

  研究期間：  1997年04月  -  現在

論文 【 表示 ／ 非表示 】

論文

• Observation of carrier recombination in single Shockley stacking faults and at partial dislocations in 4H-SiC

  Masashi Kato, Shinya Katahira, Yoshihito Ichikawa, Shunta Harada, and Tsunenobu Kimoto

  Journal of Applied Physics   124 ( 9 ) 095702   2018年09月  [査読有り]

  研究論文（学術雑誌）   共著

  

• Passivation of surface recombination at the Si-face of 4H-SiC by acidic solutions

  Yoshihito Ichikawa, Masaya Ichimura, Tsunenobu Kimoto, Masashi Kato

  the ECS Journal of Solid State Science and Technology   7 ( 8 ) Q127 - Q130   2018年06月  [査読有り]

  研究論文（学術雑誌）   共著

  

• Expansion of a single Shockley stacking fault in a 4H-SiC (1120) epitaxial layer caused by electron beam irradiation

  Yukari Ishikawa, Masaki Sudo, Yong-Zhao Yao, Yoshihiro Sugawara, Masashi Kato

  JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   123   225101-1 - 225101-6   2018年06月  [査読有り]

  研究論文（学術雑誌）   共著

  

• Increased expression level of Hsp70 in the inner ears of mice by exposure to low frequency noise

  Hiromasa Ninomiya, Nobutaka Ohgami, Reina Oshino, Masashi Kato, Kyoko Ohgami, Xiang Li, Dandan Shen, Machiko Iida, Ichiro Yajima, Charalampos E. Angelidis, Hiroaki Adachi, Masahisa Katsuno, Gen Sobue, Masashi Kato

  Hearing Research   363   49 - 54   2018年06月  [査読有り]

  研究論文（学術雑誌）   共著

  

• Expansion of Basal Plane Dislocation in 4H-SiC Epitaxial Layer on A-Plane by Electron Beam Irradiation

  Masaki Sudo, Yukari Ishikawa, Yong Zhao Yao, Yoshihiro Sugawara, Masashi Kato

  Materials Science Forum   924   151 - 154   2018年06月  [査読有り]

  研究論文（国際会議プロシーディングス）   共著

  

• Microscopic FCA System for Depth-Resolved Carrier Lifetime Measurement in SiC

  Shinichi Mae, Takeshi Tawara, Hidekazu Tsuchida, Masashi Kato

  Materials Science Forum   924   269 - 272   2018年06月  [査読有り]

  研究論文（国際会議プロシーディングス）   共著

  

• Observations of Inhomogeneity of 3C-SiC Layers Grown on 6H-SiC Substrates Using Scanning Internal Photoemission Microscopy

  Kenji Shiojima, Naoki Mishina, Naoto Ichikawa, Masashi Kato

  Japanese Journal of Applied Physics   57   04FR06   2018年02月  [査読有り]

  研究論文（学術雑誌）   共著

  

• Solar Water Splitting Utilizing a SiC Photocathode, a BiVO4 Photoanode, and a Perovskite Solar Cell

  Akihide Iwase, Akihiko Kudo, Youhei Numata, Masashi Ikegami, Tsutomu Miyasaka, Naoto Ichikawa, Masashi Kato, Hideki Hashimoto, Haruo Inoue, Osamu Ishitani, Hitoshi Tamiaki

  ChemSusChem   10 ( 22 ) 4420 - 4423   2017年11月  [査読有り]

  研究論文（学術雑誌）   共著

  

• P-Type 3C-SiC Photocathode for Solar to Hydrogen Energy Conversion

  Masashi Kato

  ECS Transactions   80 ( 4 ) 43 - 55   2017年09月  [査読有り]  [招待有り]

  研究論文（国際会議プロシーディングス）   単著

  

• Improved performance of 3Csingle bondSiC photocathodes by using a pn junction

  Naoto Ichikawa, Masaya Ichimura, Masashi Kato

  International Journal of Hydrogen Energy   42 ( 36 ) 22698 - 22703   2017年09月  [査読有り]

  研究論文（学術雑誌）   共著

  

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著書 【 表示 ／ 非表示 】

著書

• 薄膜の評価技術ハンドブック

  加藤　正史 (担当： 共編著 , 担当範囲: 第2章第4節第4項　DLTS法 )

  株式会社テクノシステム  2013年01月

• ＳｉＣパワーデバイスの開発と最新動向　－普及に向けたデバイスプロセスと実装技術－

  加藤正史 (担当： 単著 , 担当範囲: 第３章第４節　陽極酸化欠陥抑制法によるn型4H-SiCのショットキーダイオードの整流特性改善 )

  S&T出版  2012年10月 ISBN: 978-4-907002-06-0

• ＳｉＣパワーデバイス最新技術　＝次世代パワーエレクトロニクス＝

  加藤　正史 (担当： 単著 , 担当範囲: 第１２章．ＳｉＣへの金属電極の形成方法 )

  サイエンス＆テクノロジー株式会社  2010年05月 ISBN: 9784903413846

総説・解説記事 【 表示 ／ 非表示 】

総説・解説記事

• 人はなぜ研究者を続けることができるか

  加藤 正史

  応用物理   86 ( 6 ) 505 - 506   2017年06月

  その他記事   単著

• SiC光陰極による人工光合成

  加藤　正史

  ケミカルエンジニヤリング ( 化学工業社 )  62 ( 1 ) 19 - 23   2017年01月

  総説・解説（商業誌）   単著

• 半導体を用いた水素生成技術

  加藤　正史

  応用物理 ( 公益社団法人　応用物理学会 )  85 ( 2 ) 100 - 104   2016年02月

  総説・解説（国際会議プロシーディングズ）   単著

• ハウリングを高速応答のアナログ回路で除去

  加藤正史、久保真奈美、谷口淳紀、ナラサンビ　アヌスヤ

  日経エレクトロニクス ( 日経BP社 )    65 - 71   2014年10月

  総説・解説（商業誌）   共著

• 世界初！「SiCと水から水素を製造！」

  加藤正史

  マテリアルステージ ( 技術情報協会 )  ( 2月 ) 64 - 66   2014年02月

  総説・解説（商業誌）   単著

• シリコンカーバイドの太陽光吸収を利用した水素生成

  加藤　正史

  ケミカルエンジニヤリング ( 化学工業社 )  58 ( 10 ) 7 - 11   2013年10月

  総説・解説（商業誌）   単著

研究発表 【 表示 ／ 非表示 】

研究発表

• [C5-1] Carrier lifetime measurements for wide gap semiconductors SiC and GaN

  Masashi Kato

  EVS31 & EVTeC 2018  (Kobe Convention Center)  2018年09月  -  2018年10月 

• [20a-331-2] GaN基板上n型およびp型エピ層のキャリア再結合の比較

  朱 帥、浅田 貴斗、伊藤 健治、冨田 一義、成田 哲生、加地 徹、加藤 正史

  2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会  (名古屋国際会議場)  2018年09月  -  2018年09月 

• [21a-141-5] 4H-SiC厚膜エピにおける深さ分解ライフタイム測定

  平山 貴史、櫛部 光弘、宮坂 晶、児島 一聡、加藤 智久、奥村 元、加藤 正史

  2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会  (名古屋国際会議場)  2018年09月  -  2018年09月 

• [21a-141-4] 4H-SiCのSi・C面表面再結合速度 -測定・解析精度向上による再検討-

  加藤 正史、Zhang Xinchi、小濱 公洋、市村 正也

  2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会  (名古屋国際会議場)  2018年09月  -  2018年09月 

• [20p-221C-5] 表面積拡大による3C-SiC光電極の性能向上

  安部 友裕、加藤 正史

  2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会  (名古屋国際会議場)  2018年09月  -  2018年09月 

• MO.04.01 Modeling Physical Properties of Single Shockley-type Stacking Fault in 4H-SiC PiN Diode

  K. Nakayama, T. Kimoto, M. Kato, Y. Yonezawa, H. Okumura

  European Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ECSCRM 2018)  (The International Conference Centre, Birmingham, UK)  2018年09月  -  2018年09月 

• TH.03.03 Surface recombination velocity for non-polar faces of 4H-SiC

  M. Kato, X. Zhang, K. Kohama, M. Ichimura

  European Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ECSCR 2018)  (The International Conference Centre, Birmingham, UK)  2018年09月  -  2018年09月 

• 第66回年次大会・工学教育研究講演会

  関　健太、平田　晃正、王　健青、安井　晋示、加藤　正史、岩崎　誠

  第66回年次大会・工学教育研究講演会  2018年08月  -  2018年08月 

• Carrier lifetime measurements for power semiconductor materials

  Masashi Kato  [招待有り]

  the Collaborative Conference on Materials Research (CCMR) 2018  (Songdo Convensia, Korea)  2018年06月  -  2018年06月 

• 7C-3.4 Slow carrier recombination in a GaN epilayer grown on a GaN substrate

  Takato Asada, Kenji Ito, Kazuyoshi Tomita, Tetsuo Narita, Tetsu Kachi, Masashi Kato

  The 19th International Conference on Metalorganic Vapor Phase Epitaxy (ICMOVPE-XIX)  (Nara Kasugano International Forum 甍 IRAKA)  2018年06月  -  2018年06月 

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工業所有権 【 表示 ／ 非表示 】

工業所有権

• 高変換効率ＳｉＣ光電極およびそれを用いた水素製造装置

  特願 特願2016-033015 

  加藤正史、市川尚澄

• 高変換効率ＳｉＣ光電極およびそれを用いた水素製造装置

  特願 特願2015-076647 

  加藤　正史,長谷川　貴大,市川　尚澄

• 高変換効率ＳｉＣ光電極およびそれを用いた水素製造装置

  特願 特願2015-014184 

  加藤　正史、長谷川　貴大、市川　尚澄

• 高変換効率ＳｉＣ光電極

  特願 2014-227634 

  加藤　正史、長谷川　貴大、市川　尚澄

• 界面抵抗を低減したＳｉＣ光電極およびその製造方法、ならびにＳｉＣ光電極を用いた水素製造装置

  特願 2014-015515 

  加藤　正史, 長谷川　貴大

• 半導体キャリアライフタイム測定方法

  特願 2013-165683 

  加藤　正史,森　祐人

• ハウリング低減システム及びそれに用いられるアナログ電子回路

  特願 特願2013-051477 

  加藤正史、久保真奈美

• ハウリング低減システム及びそれに用いられるアナログ電子回路

  特願 特願2013-051488 

  加藤 正史，久保 真奈美，谷口 淳紀

• ハウリング低減システム及びそれに用いられるアナログ電子回路

  特願 特願2013-051469 

  加藤正史、久保真奈美、谷口 淳紀

• アクティブノイズコントロールシステムおよびそれらに用いられる電子回路

  特願 特願2013-014367 

  加藤正史、山中星良

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学術関係受賞 【 表示 ／ 非表示 】

学術関係受賞

• the Award for Encouragement of Research in IUMRS-ICA2014

  2014年10月21日   MRS-J  

  受賞者：  Masashi Kato

• 文部科学大臣表彰科学技術賞（理解増進部門）

  2014年04月15日   文部科学省  

  受賞者：  平田晃正、丸田章博、加藤正史、江龍修

• 安藤博記念学術奨励賞

  2010年06月19日   財団法人安藤研究所  

  受賞者：  加藤正史

• 電子情報通信学会学生研究奨励賞

  2003年06月04日   -  

  受賞者：  -

• Best Paper Award

  2003年02月22日   The Indian Science Congress Association, Chennai Chapter  

  受賞者：  Masashi Kato, Masaya Ichimura, Eisuke Arai

学会・委員会等活動 【 表示 ／ 非表示 】

学会・委員会等活動