木村 高志 (キムラ タカシ)

KIMURA Takashi

写真a

所属学科・専攻等

物理工学教育類 応用物理分野
物理工学専攻 応用物理分野

職名

准教授

出身大学

  •  
    -
    1987年03月

    名古屋工業大学   工学部   計測工学   卒業

出身大学院

  •  
    -
    1989年03月

    名古屋工業大学  工学研究科  生産システム工学修士課程  修了

取得学位

  • 名古屋工業大学 -  博士(工学)

  • 名古屋工業大学 -  工学修士

学外略歴

  • 1989年04月
    -
    1990年04月

      三菱重工株式会社   -

所属学会・委員会

  •  
     
     

    計測自動制御学会

  •  
     
     

    電気学会

  •  
     
     

    応用物理学会

専門分野(科研費分類)

  • プラズマ科学

 

研究経歴

  • 大気圧放電の応用に関する研究

    研究期間:   - 

  • プロセス向け低圧放電プラズマ装置の設計

    研究期間:   - 

論文

  • Deposition of Fluorinated Diamond-Like-Carbon Films by Exposure of Electrothermal Pulsed Plasmas

    Takashi Kimura, Masayasu Iida

    Japanese Journal of Applied Physics   50 ( 08 ) JD04   2011年08月  [査読有り]

    研究論文(学術雑誌)   共著

  • Experiments and global model of inductively coupled rf Ar/N2 discharges

    Takashi Kimura, Hiroki Kasugai

    Journal of Applied Physics   108   033305-1 - 033305-9   2010年08月  [査読有り]

    研究論文(学術雑誌)   共著

  • Properties of inductively-coupled RF Ar/H2 plasmas :experiment and global model

    Takashi Kimura, Hiroki Kasugai

    Journal of Applied Physics   107   83308   2010年04月  [査読有り]

    研究論文(学術雑誌)   共著

  • Comparison of plasma parameters measured in inductively coupled Ar/C4F8/O2 and Ar/CF4/O2 plasmas

    T Kimura and K Hanaki

    Japanese Journal of Applied Physics   48 ( 9 ) 96004   2009年09月  [査読有り]

    研究論文(学術雑誌)   共著

  • Experimental study on properties of radio frequency He/CF4/O2 discharges at atmospheric pressure

    T. Kimura and H Tanahashi

    Plasma Sources Science and Technology   18 ( 2 ) 25002   2009年05月  [査読有り]

    研究論文(学術雑誌)   共著

  • 大気圧ヘリウム直流グロ-放電の一次元流体シミュレ-ション

    小田昭紀、木村高志

    電気学会論文誌A   129 ( 4 ) 251 - 256   2009年04月  [査読有り]

    研究論文(学術雑誌)   共著

  • Experiments and global model analysis of inductively coupled CF4/O2/Ar plasmas

    T Kimura and K Hanaki

    Japanese Journal of Applied Physics   47 ( 11 ) 8537 - 8545   2008年11月  [査読有り]

    研究論文(学術雑誌)   共著

  • Probe measurements and optical emission spectroscopy in inductively coupled Ar/CF4, Ar/NF3 and Ar/SF6 discharges

    T Kimura and K Hanaki

    Japanese Journal of Applied Physics   47 ( 11 ) 8546 - 8552   2008年11月  [査読有り]

    研究論文(学術雑誌)   共著

  • Experimental study on inductively coupled RF CF4/O2/Ar discharges

    T.Kimura, K.Hanaki and S.Shimagami

    Proceedings of 18th International Symposium on Plasma Chemistry (CD ROM)     110   2007年08月  [査読有り]

    研究論文(国際会議プロシーディングス)   共著

  • Experimental study on atmospheric pressure RF capacitive He/CF4,He/C2F6 and He/SF6 discharges

    T.Kimura, H.Tanahashi, T.Mori

    Proceedings of 18th International Symposium on Plasma Chemistry (CD ROM)     167   2007年08月  [査読有り]

    研究論文(国際会議プロシーディングス)   共著

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研究発表

  • Preparation of DLC films by high power pulsed magnetron sputtering with facing targets

    TOSHIHIKO MISHIMA, TAKASHI KIMURA, KINGO AZUMA AND SETSUO NAKAO

    International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications  (Nagoya University)  2015年03月  -  2015年03月  The Japan Society of Applied Physics

  • Properties of high power pulsed magnetron sputtering plasma for deposition of diamond-like carbon (DLC) films

    Takashi Kimura, Ryoutaro Nishimura, Masayasu Iida

    Plasma Conference2011  (金沢)  2011年11月  -  2011年11月  日本応用物理学会,プラズマ核融合学会

  • Global Model of inductively coupled CH4/H2 Plasmas

    Takashi Kimura

    plasma conference2011  (金沢)  2011年11月  -  2011年11月  日本応用物理学会、プラズマ核融合学会

  • Properties of inductively coupled rf Ne/N2 plasmas

    Takashi Kimura, Ryoutaro Nishimura

    Plasma Conference 2011  (金沢)  2011年11月  -  2011年11月  日本応用物理学会,プラズマ核融合学会

  • Deposition of diamond-like carbon films by high power pulsed magnetron sputtering

    Takashi Kimura, Masayasu Iida

    International sysmposium on dry process  (京都ガーデンパレスホテル,日本)  2011年11月  -  2011年11月  日本応用物理学会

  • パルスマグネトロンスパッタリングによるダイヤモンドライクカ-ボン成膜

    木村高志、飯田将康

    電気学会プラズマ研究会  (富山大学)  2011年05月  -  2011年05月  電気学会

  • Arで希釈された誘導性結合反応性プラズマの特性

    木村高志

    電気学会研究会  (東京工業大学)  2011年03月  -  2011年03月  電気学会

  • Properties of high pressure RF He/CH4 discharges

    Shotaro Kanzaki, Akinori Oda, Takashi Kimura

    International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials   (名古屋工業大学)  2011年03月  -  2011年03月 

  • 誘導性結合高周波CH4/H2プラズマの実験とグロ-バルモデル

    木村高志,春日井宏樹

    電気学会プラズマ研究会  (東京工業大学)  2010年12月  -  2010年12月  電気学会

  • Properties of inductively coupled rf CH4/H2 discharges

    Takashi Kimura, Hiroki Kasugai

    気体電子工学国際会議&反応性プラズマ国際会議  (Paris)  2010年10月  -  2010年10月 

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学会・委員会等活動

  • 1999年04月
    -
    2001年03月

    応用物理学会   プラズマエレクトロニクス分科会幹事