木村 高志 (キムラ タカシ)

KIMURA Takashi

写真a

所属学科・専攻等

物理工学教育類 応用物理分野
物理工学専攻 応用物理分野

職名

准教授

出身大学

  •  
    -
    1987年03月

    名古屋工業大学   工学部   計測工学   卒業

出身大学院

  •  
    -
    1989年03月

    名古屋工業大学  工学研究科  生産システム工学修士課程  修了

取得学位

  • 名古屋工業大学 -  博士(工学)

  • 名古屋工業大学 -  工学修士

学外略歴

  • 1989年04月
    -
    1990年04月

      三菱重工株式会社   -

所属学会・委員会

  •  
     
     

    計測自動制御学会

  •  
     
     

    電気学会

  •  
     
     

    応用物理学会

専門分野(科研費分類)

  • プラズマ科学

 

研究経歴

  • 大気圧放電の応用に関する研究

    研究期間:   - 

  • プロセス向け低圧放電プラズマ装置の設計

    研究期間:   - 

論文

  • Preparation of titanium carbon nitride films by reactive high power pulsed sputtering Penning discharges

    Takashi Kimura, Ryo Yoshida, Kingo Azuma, Setsuo Nakao

    Vacuum ( Elsevier )  157   192 - 201   2018年11月  [査読有り]

    研究論文(学術雑誌)   共著

  • Preparation of TiSiN films by high power pulsed sputtering Penning discharges

    R. Yoshida, T. Kimura

    2018 International Symposium on Dry Process     2018年11月

    研究論文(国際会議プロシーディングス)   共著

  • Properties of TiON films prepared by reactive high power pulsed magnetron sputtering containing O2 and N2 gases

    T. Tanaka, T. Kimura

    2018 International Symposium on Dry Process     2018年11月

    研究論文(国際会議プロシーディングス)   共著

  • Electrical conductivity of Si-DLC films prepared by HiPIMS combined with PBII system

    Y Shibata, T. Kimura, S. Nakao, K. Azuma

    2018 International Symposium on Dry Process     2018年11月

    研究論文(国際会議プロシーディングス)   共著

  • Comparative investigation on DLC films prepared by reactive high-power impulse magnetron sputtering of Ar/CH4 and Ar/C2H4 mixture

    K. Sakai, T. Kimura

    2018 International Symposium on Dry Process     2018年11月

    研究論文(国際会議プロシーディングス)   共著

  • Deposition and ion irradiation multi-process coating of diamond-like carbon films using bipolar type plasma based ion implantation

    S. Nakao, H. Yanai, T. Kimura, K. Azuma

    2018 International Symposium on Dry Process     2018年11月

    研究論文(国際会議プロシーディングス)   共著

  • Plasma based nitrogen ion implantation to hydrogenated diamond-like carbon films

    Takashi Kimura, Hidekazu Yanai, Setsuo Nakao, Kingo Azuma

    Nuclear Inst. and Methods in Physics Research B ( Elsevier )  433   87 - 92   2018年10月  [査読有り]

    研究論文(学術雑誌)   共著

  • Preparation of TiN films by reactive high-power pulsed sputtering Penning discharges

    Takashi Kimura, Ryo Yoshida, Toshihiko Mishima, Kingo Azuma, and Setsuo Nakao

    Japanese Journal of Applied Physics ( The Japan Society of Applied Physics )  57 ( 06JE02 ) 1 - 6   2018年06月  [査読有り]

    研究論文(学術雑誌)   共著

  • Preparation of TiN films by reactive high power pulsed sputter Penning-type discharges

    T. Mishima, T. Kimura, R. Yoshida, K. Azuma, S. Nakao

    2017 International Symposium on Dry Process     2017年11月  [査読有り]

    研究論文(国際会議プロシーディングス)   単著

  • Conductive diamond-like carbon films prepared by high power pulsed magnetron sputtering with bipolar type plasma based ion implantation system

    S. Nakao, T. Kimura, T. Suyama, K. Azuma

    Diamond and Related Materials ( Elsevier )  77   122 - 130   2017年07月  [査読有り]

    研究論文(学術雑誌)   共著

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研究発表

  • Preparation of TiN films by reactive high power pulsed sputter Penning-type discharges

    T. Mishima, T. Kimura, R. Yoshida, K. Azuma, S. Nakao

    39th Internatioal Symposium on Dry Process  (Tokyo Institute of Technology)  2017年11月  -  2017年11月  The Japan Society of Applied Physics

  • Plasma Based Nitrogen Ion Implantation to Hydrogenated Diamond-like Carbon Films

    T. Kimura, H.Yanai, S. Nakao, and K. Azuma

    11th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering  (Jeju, Republic of Korea)  2017年09月  -  2017年09月  Asian Joint Committee for Applied Plasma Science and Engineering

  • 対向タ-ゲット型反応性HPPSによるTiCN膜の作製

    三島俊彦、吉田涼、中尾 節男、東 欣吾、木村 高志

    第78回応用物理学会秋季学術講演会  (福岡国際会議場)  2017年09月  -  2017年09月  応用物理学会

  • ホロ-形状ターゲットを持つ高電力パルススパッタの電気特性

    木村高志,三島俊彦

    第34回プラズマプロセシング研究会/第29回プラズマ材料科学シンポジウム  (北海道大学)  2017年01月  -  2017年01月  応用物理学会

  • Preparation of Conductive DLC Films by High Power Pulsed Magnetron Sputtering Combined with Plasma Based Ion Implantation System

    T. Kimura, H. Kamata, S. Nakao and K. Azuma

    日本MRS年次大会  (横浜市開港記念会館)  2016年12月  -  2016年12月  日本MRS

  • Surface Modification of DLC Films by Plasma Based Nitrogen Ion Implantation Method

    H. Yanai, T. Kimura , S. Nakao and K. Azuma

    日本MRS年次大会  (横浜開港記念会館)  2016年12月  -  2016年12月  日本MRS

  • The deposition of Titanium Nitride thin film using a high-power pulse Penning sputtering under the Argon/Nitrogen mixture gas atmosphere

    Y. Kusuhashi, K. Azuma, T. Kimura

    APSPT-9/SPSM-28  (Nagasaki University)  2015年12月  -  2015年12月  APSPT-9/SPSM-28 International Organizing Committee

  • Formation of hydrogenated amorphous carbon films by reactive high power impulse magnetron sputtering containing C2H2 gas

    Takashi Kimura, Hikaru Kamata

    ICRP-9/SPP-33/GEC-68  (Hawaii Convention Center, Honolulu, USA)  2015年10月  -  2015年10月  The Japanese Society of Applied Physics, American Physical Society

  • Preparation of hydrogenated diamond-like carbon films by reactive Ar/CH4 high power impulse magnetron sputtering with negative pulse voltage

    Takashi Kimura, Hikaru Kamata

    ICRP-9/SPP-33/GEC-68  (Hawaii Convention Center, Honolulu,USA)  2015年10月  -  2015年10月  The Japanese Society of Applied Physics, American Physical Society

  • Conductive DLC films prepared by high power pulsed magnetron sputtering with bipolar pulse voltage source for substrate

    Takashi Kimura, Taku Suyama, Kingo Azuma, Setsuo Nakao, Tsutomu Sonoda, Takeshi Kusumori, Kimihiro Ozaki

    AEPSE2015  (Ramada Plaza Hotel,Jeju, Korea )  2015年09月  -  2015年09月  AJC-APSE

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学会・委員会等活動

  • 1999年04月
    -
    2001年03月

    応用物理学会   プラズマエレクトロニクス分科会幹事