木村 高志 (キムラ タカシ)

KIMURA Takashi

写真a

所属学科・専攻等

物理工学教育類 応用物理分野
物理工学専攻 応用物理分野

職名

准教授

出身大学

  •  
    -
    1987年03月

    名古屋工業大学   工学部   計測工学   卒業

出身大学院

  •  
    -
    1989年03月

    名古屋工業大学  工学研究科  生産システム工学修士課程  修了

取得学位

  • 名古屋工業大学 -  博士(工学)

  • 名古屋工業大学 -  工学修士

学外略歴

  • 1989年04月
    -
    1990年04月

      三菱重工株式会社   -

所属学会・委員会

  •  
     
     

    計測自動制御学会

  •  
     
     

    電気学会

  •  
     
     

    応用物理学会

専門分野(科研費分類)

  • プラズマ科学

 

研究経歴

  • 大気圧放電の応用に関する研究

    研究期間:   - 

  • プロセス向け低圧放電プラズマ装置の設計

    研究期間:   - 

論文

  • Titanium silicon nitride films with low silicon content deposited via reactive high-power pulsed sputtering Penning discharge

    T. Kimura, R. Yoshida, K. Azuma

    IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE ( IEEE )  49 ( 1 ) 53 - 60   2021年01月  [査読有り]

    研究論文(学術雑誌)   共著

  • Synthesis of hard diamond-like carbon films by double-pulse high-power impulse magnetron sputtering

    T. Kimura, K. Sakai

    Diamond & Related Materials ( Elsevier )  108   107996   2020年08月  [査読有り]

    研究論文(学術雑誌)   共著

  • Properties of titanium oxynitride films deposited on glass substrate by reactive high-power pulsed magnetron sputtering

    T. Kimura, T. Tanaka

    Japanese Journal of Applied Physics ( The Japan Society of Applied Physics )  59   SHHE03   2020年06月  [査読有り]

    研究論文(学術雑誌)   共著

  • Effects of adding hydrocarbon gas to a high-power impulse magnetron sputtering system on the properties of diamond-like carbon films

    T. Kimura, K. Sakai

    Thin solid films ( Elsevier )  701   137924   2020年05月  [査読有り]

    研究論文(学術雑誌)   共著

  • Preparation of silicon-doped diamond-like carbon films with electrical conductivity by reactive high-power impulse magnetron sputtering combined with a plasma-based ion implantation system

    Y. Shibata, T.Kimura, S. Nakao, K.Azuma

    Diamond & Related Materials ( Elsevier )  101   107635   2020年01月  [査読有り]

    研究論文(学術雑誌)   共著

  • Properties of titanium oxynitride films prepared by reactive high power pulsed magnetron sputtering

    T.Kimura, T. Tanaka

    XXXIV International COnference on Phenomena in ionzied gases     2019年07月

    研究論文(国際会議プロシーディングス)   単著

  • Deposition of Si-doped DLC films by reactive HiPIMS combined with PBII system

    T. Kimura , Y. Shibata, S. Nakao and K. Azuma

    Proceedings International symposium on sputtering & plasma processes     178 - 180   2019年06月

    研究論文(国際会議プロシーディングス)   共著

  • Preparation of titanium carbon nitride films by reactive high power pulsed sputtering Penning discharges

    Takashi Kimura, Ryo Yoshida, Kingo Azuma, Setsuo Nakao

    Vacuum ( Elsevier )  157   192 - 201   2018年11月  [査読有り]

    研究論文(学術雑誌)   共著

  • Preparation of TiSiN films by high power pulsed sputtering Penning discharges

    R. Yoshida, T. Kimura

    2018 International Symposium on Dry Process     2018年11月

    研究論文(国際会議プロシーディングス)   共著

  • Properties of TiON films prepared by reactive high power pulsed magnetron sputtering containing O2 and N2 gases

    T. Tanaka, T. Kimura

    2018 International Symposium on Dry Process     2018年11月

    研究論文(国際会議プロシーディングス)   共著

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研究発表

  • Properties of Titanium–Vanadium Nitride Films Prepared By Reactive High Power Pulsed Sputtering Penning Discharges

    Takashi Kimura, Ryo Yoshida, Kingo Azuma

    The 11th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-11)   (The Kanazawa Chamber of Commerce & Industry, Kanazawa , Japan)  2019年12月  -  2019年12月  International Organizing Committee of APSPST, IEEJ Electric Discharge, Plasma and Pulse Power Committee

  • Si content dependence of TiSiN films prepared by reactive high power pulsed sputtering Penning discharges

    Takashi Kimura, Ryo Yoshida, Kingo Azuma

    The 11th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-11)  (The Kanazawa Chamber of Commerce & Industry, Kanazawa , Japan)  2019年12月  -  2019年12月  International Organizing Committee of APSPST, IEEJ Electric Discharge, Plasma and Pulse Power Committee

  • Double Pulsing Method for Preparation of Hard DLC Films in High Power Pulsed Magnetron Sputtering System

    Takashi Kimura and Kento Sakai

    12th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2019)  (Maison Glad Hotel, Jeju Island, Korea )  2019年09月  -  2019年09月  Asian Joint Committee for Applied Plasma Science and Engineering

  • Properties of TiSiN films Prepared by High Power Pulsed Sputtering Penning Discharge

    Takashi Kimura, Ryo Yoshida and Kingo Azuma

    12th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2019)  (Maison Glad Hotel, Jeju Island, Korea)  2019年09月  -  2019年09月  Asian Joint Committee for Applied Plasma Science and Engineering

  • Influence of small amount of hydrocarbon gas mixture on properties of DLC films in high power impulse magnetron sputtering system

    Takashi Kimura, Kento Sakai

    XXXIV International Conference on Phenomena in Ionized Gases (XXXIV ICPIG) and the 10th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-10)  (Sapporo Education and Culture Hall, Sapporo, Hokkaido, Japan)  2019年07月  -  2019年07月  第34回電離気体現象国際会議(XXXIV ICPIG)/第10回反応性プラズマ国際会議(ICRP-10) 実行委員会

  • Properties of titanium oxynitride films prepared by reactive high power pulsed magnetron sputtering

    Takashi Kimura, Takahiro Tanaka

    XXXIV International Conference on Phenomena in Ionized Gases (XXXIV ICPIG) and the 10th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-10)  (Sapporo Education and Culture Hall, Sapporo, Hokkaido, Japan)  2019年07月  -  2019年07月  第34回電離気体現象国際会議(XXXIV ICPIG)/第10回反応性プラズマ国際会議(ICRP-10) 実行委員会

  • Deposition of Si-doped DLC films by reactive HiPIMS combined with PBII system

    Takashi Kimura, Yuki Shibata,Setsuo Nakao and Kingo Azuma

    ISSP2019: The 15th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes  (金沢工業大学)  2019年06月  -  2019年06月  The Japan Society of Vacuum and Surface Science

  • Preparation of TiN films by reactive high power pulsed sputter Penning-type discharges

    T. Mishima, T. Kimura, R. Yoshida, K. Azuma, S. Nakao

    39th Internatioal Symposium on Dry Process  (Tokyo Institute of Technology)  2017年11月  -  2017年11月  The Japan Society of Applied Physics

  • Plasma Based Nitrogen Ion Implantation to Hydrogenated Diamond-like Carbon Films

    T. Kimura, H.Yanai, S. Nakao, and K. Azuma

    11th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering  (Jeju, Republic of Korea)  2017年09月  -  2017年09月  Asian Joint Committee for Applied Plasma Science and Engineering

  • 対向タ-ゲット型反応性HPPSによるTiCN膜の作製

    三島俊彦、吉田涼、中尾 節男、東 欣吾、木村 高志

    第78回応用物理学会秋季学術講演会  (福岡国際会議場)  2017年09月  -  2017年09月  応用物理学会

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学会・委員会等活動

  • 1999年04月
    -
    2001年03月

    応用物理学会   プラズマエレクトロニクス分科会幹事