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所属学科・専攻等 |
物理工学教育類 応用物理分野
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職名 |
准教授 |
論文
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Deposition of Fluorinated Diamond-Like-Carbon Films by Exposure of Electrothermal Pulsed Plasmas
Takashi Kimura, Masayasu Iida
Japanese Journal of Applied Physics 50 ( 08 ) JD04 2011年08月 [査読有り]
研究論文（学術雑誌） 共著
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Experiments and global model of inductively coupled rf Ar/N2 discharges
Takashi Kimura, Hiroki Kasugai
Journal of Applied Physics 108 033305-1 - 033305-9 2010年08月 [査読有り]
研究論文（学術雑誌） 共著
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Properties of inductively-coupled RF Ar/H2 plasmas :experiment and global model
Takashi Kimura, Hiroki Kasugai
Journal of Applied Physics 107 83308 2010年04月 [査読有り]
研究論文（学術雑誌） 共著
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Comparison of plasma parameters measured in inductively coupled Ar/C4F8/O2 and Ar/CF4/O2 plasmas
T Kimura and K Hanaki
Japanese Journal of Applied Physics 48 ( 9 ) 96004 2009年09月 [査読有り]
研究論文（学術雑誌） 共著
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Experimental study on properties of radio frequency He/CF4/O2 discharges at atmospheric pressure
T. Kimura and H Tanahashi
Plasma Sources Science and Technology 18 ( 2 ) 25002 2009年05月 [査読有り]
研究論文（学術雑誌） 共著
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大気圧ヘリウム直流グロ－放電の一次元流体シミュレ－ション
小田昭紀、木村高志
電気学会論文誌A 129 ( 4 ) 251 - 256 2009年04月 [査読有り]
研究論文（学術雑誌） 共著
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Experiments and global model analysis of inductively coupled CF4/O2/Ar plasmas
T Kimura and K Hanaki
Japanese Journal of Applied Physics 47 ( 11 ) 8537 - 8545 2008年11月 [査読有り]
研究論文（学術雑誌） 共著
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Probe measurements and optical emission spectroscopy in inductively coupled Ar/CF4, Ar/NF3 and Ar/SF6 discharges
T Kimura and K Hanaki
Japanese Journal of Applied Physics 47 ( 11 ) 8546 - 8552 2008年11月 [査読有り]
研究論文（学術雑誌） 共著
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Experimental study on inductively coupled RF CF4/O2/Ar discharges
T.Kimura, K.Hanaki and S.Shimagami
Proceedings of 18th International Symposium on Plasma Chemistry (CD ROM) 110 2007年08月 [査読有り]
研究論文（国際会議プロシーディングス） 共著
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Experimental study on atmospheric pressure RF capacitive He/CF4,He/C2F6 and He/SF6 discharges
T.Kimura, H.Tanahashi, T.Mori
Proceedings of 18th International Symposium on Plasma Chemistry (CD ROM) 167 2007年08月 [査読有り]
研究論文（国際会議プロシーディングス） 共著
研究発表
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Preparation of DLC films by high power pulsed magnetron sputtering with facing targets
TOSHIHIKO MISHIMA, TAKASHI KIMURA, KINGO AZUMA AND SETSUO NAKAO
International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications (Nagoya University) 2015年03月 - 2015年03月 The Japan Society of Applied Physics
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Global Model of inductively coupled CH4/H2 Plasmas
Takashi Kimura
plasma conference2011 (金沢) 2011年11月 - 2011年11月 日本応用物理学会、プラズマ核融合学会
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Properties of high power pulsed magnetron sputtering plasma for deposition of diamond-like carbon (DLC) films
Takashi Kimura, Ryoutaro Nishimura, Masayasu Iida
Plasma Conference2011 (金沢) 2011年11月 - 2011年11月 日本応用物理学会，プラズマ核融合学会
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Properties of inductively coupled rf Ne/N2 plasmas
Takashi Kimura, Ryoutaro Nishimura
Plasma Conference 2011 (金沢) 2011年11月 - 2011年11月 日本応用物理学会，プラズマ核融合学会
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Deposition of diamond-like carbon films by ｈigh power pulsed magnetron sputtering
Takashi Kimura, Masayasu Iida
International sysmposium on dry process (京都ガーデンパレスホテル，日本) 2011年11月 - 2011年11月 日本応用物理学会
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パルスマグネトロンスパッタリングによるダイヤモンドライクカ－ボン成膜
木村高志、飯田将康
電気学会プラズマ研究会 (富山大学) 2011年05月 - 2011年05月 電気学会
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Aｒで希釈された誘導性結合反応性プラズマの特性
木村高志
電気学会研究会 (東京工業大学) 2011年03月 - 2011年03月 電気学会
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Properties of high pressure RF He/CH4 discharges
Shotaro Kanzaki, Akinori Oda, Takashi Kimura
International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (名古屋工業大学) 2011年03月 - 2011年03月
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誘導性結合高周波CH4/H2プラズマの実験とグロ-バルモデル
木村高志，春日井宏樹
電気学会プラズマ研究会 (東京工業大学) 2010年12月 - 2010年12月 電気学会
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Properties of inductively coupled rf CH4/H2 discharges
Takashi Kimura, Hiroki Kasugai
気体電子工学国際会議＆反応性プラズマ国際会議 (Paris) 2010年10月 - 2010年10月